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稀土金属掺杂氮化铜的第一性原理研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
专用术语注释表第9-10页
第一章 绪论第10-14页
    1.1 氮化铜(Cu_3N)概述第10页
    1.2 氮化铜(Cu_3N)的结构第10-11页
    1.3 氮化铜(Cu_3N)的性能研究第11页
    1.4 氮化铜(Cu_3N)的应用第11页
    1.5 氮化铜(Cu_3N)的实验制备第11页
    1.6 氮化铜(Cu_3N)的掺杂研究第11-13页
        1.6.1 实验研究进展第12页
        1.6.2 理论研究进展第12-13页
    1.7 本论文主要研究内容第13-14页
第二章 氮化铜理论研究方法第14-20页
    2.1 第一性原理计算方法第14-17页
        2.1.1 从头算法(ab initio method)和薛定谔方程(schr?dinger equation)第14-15页
        2.1.2 密度泛函理论(DFT)第15页
        2.1.3 玻恩-奥本海默近似(Born-Oppenhaimer approximation)第15-16页
        2.1.4 霍恩伯格-科恩(Hohenberg-Kohn)定理第16页
        2.1.5 科恩-沈吕九方程(Kohn-Sham equation)第16-17页
    2.2 交联相关泛函第17-18页
    2.3 线性扩展平面波(LAPW)法第18-19页
    2.4 本章小结第19-20页
第三章 计算软件简介和计算步骤第20-32页
    3.1 WIEN2k软件包简介第20-22页
    3.2 XCrySDen软件第22页
    3.3 计算步骤第22-31页
        3.3.1 计算参数设置第22-24页
        3.3.2 结构优化第24页
        3.3.3 电荷密度第24-25页
        3.3.4 态密度(DOS)第25-26页
        3.3.5 能带结构(band structure)第26-27页
        3.3.6 光学性质第27-29页
        3.3.7 弹性性质第29-31页
    3.4 本章小结第31-32页
第四章 Cu_3N和Cu_3NM_1(M_1=Sc,Y和La)的性质分析第32-45页
    4.1 Cu_3N和Cu_3NM_1的结构性质第32-34页
        4.1.1 晶格常数( a )第32-33页
        4.1.2 形成能(Heats of formation)第33-34页
    4.2 Cu_3N和Cu_3NM_1的电学性质第34-39页
        4.2.1 电荷密度分布第34-35页
        4.2.2 态密度(DOS)第35-37页
        4.2.3 能带结构(Band structure)第37-39页
    4.3 Cu_3N和Cu_3NM_1的弹性性质第39-40页
    4.4 Cu_3N和Cu_3NM_1的光学性质第40-43页
        4.4.1 Cu_3N和Cu_3NM_1的吸收系数第41-42页
        4.4.2 Cu_3N和Cu_3NM_1的折射率和反射率第42-43页
        4.4.3 Cu_3N和Cu_3NM_1的能量损耗光谱第43页
    4.5 本章小结第43-45页
第五章 Cu_3N和Cu_3NM_2(M_2=镧系稀土金属)的性质分析第45-50页
    5.1 Cu_3N和Cu_3NM_2的结构性质第45-46页
    5.2 Cu_3N和Cu_3NM_2的电学性质第46-48页
    5.3 Cu_3N和Cu_3NM_2的光学性质第48-49页
    5.4 本章小结第49-50页
第六章 总结与展望第50-52页
    6.1 本文总结第50-51页
    6.2 有待进一步研究解决的问题第51-52页
参考文献第52-55页
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文第55-56页
附录2 攻读硕士学位期间申请的专利第56-57页
附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目第57-58页
致谢第58页

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