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熔石英表面污染物粘附机理及洁净度表征方法研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 绪论第9-18页
    1.1 课题来源第9页
    1.2 课题研究背景与意义第9-10页
    1.3 常用光学元件清洗技术第10-13页
        1.3.1 干式清洗技术第11-12页
        1.3.2 湿式清洗技术第12-13页
    1.4 界面吸附的研究现状及分析第13-16页
    1.5 论文主要研究内容第16-18页
第2章 分子模拟基本理论与熔石英洁净度表征第18-26页
    2.1 引言第18页
    2.2 分子动力学仿真理论第18-22页
    2.3 熔石英洁净清洗工艺流程第22-24页
    2.4 熔石英表面洁净度表征方法第24-25页
        2.4.1 定性表征第24-25页
        2.4.2 定量表征第25页
    2.5 本章小结第25-26页
第3章 硅油在熔石英表面吸附与去除的仿真研究第26-40页
    3.1 引言第26页
    3.2 建模方法与仿真参数设置第26-29页
    3.3 硅油在熔石英表面吸附第29-33页
        3.3.1 建模与模拟方法第29-30页
        3.3.2 仿真结果及讨论第30-33页
    3.4 硅油在熔石英表面脱附与残留机制分析第33-39页
        3.4.1 建模与模拟方法第33-34页
        3.4.2 仿真结果及讨论第34-39页
    3.5 本章小结第39-40页
第4章 接触角法表征熔石英表面洁净度的仿真研究第40-54页
    4.1 引言第40页
    4.2 水滴在不同洁净度熔石英表面吸附第40-50页
        4.2.1 建模与模拟方法第40-43页
        4.2.2 水滴在不同洁净度熔石英表面吸附过程分析第43-45页
        4.2.3 水滴接触角测量方法第45-47页
        4.2.4 水滴在不同洁净度熔石英表面稳定吸附状态分析第47-50页
    4.3 熔石英表面粗糙结构对润湿性的影响第50-53页
        4.3.1 粗糙表面润湿理论第50-51页
        4.3.2 模拟方法与结果讨论第51-53页
    4.4 本章小结第53-54页
第5章 熔石英表面洁净度表征实验与洁净质量评价第54-69页
    5.1 引言第54页
    5.2 不同洁净度熔石英样本的制备第54-58页
        5.2.1 熔石英样本的加工过程第54-57页
        5.2.2 熔石英样本的分组清洗过程第57-58页
    5.3 水滴接触角实验和XPS检测实验第58-63页
        5.3.1 实验方法与设备第58-59页
        5.3.2 检测结果与分析第59-63页
    5.4 不同因素对熔石英表面接触角测量的影响第63-68页
        5.4.1 表面粗糙度对熔石英表面接触角测量的影响第63-64页
        5.4.2 冻结时间对熔石英表面接触角测量的影响第64-66页
        5.4.3 水滴电导率对熔石英表面接触角测量的影响第66-67页
        5.4.4 水滴体积对熔石英表面接触角测量的影响第67-68页
    5.5 本章小结第68-69页
结论第69-70页
参考文献第70-74页
攻读硕士学位期间发表的论文第74-76页
致谢第76页

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