| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题来源 | 第9页 |
| 1.2 课题研究背景与意义 | 第9-10页 |
| 1.3 常用光学元件清洗技术 | 第10-13页 |
| 1.3.1 干式清洗技术 | 第11-12页 |
| 1.3.2 湿式清洗技术 | 第12-13页 |
| 1.4 界面吸附的研究现状及分析 | 第13-16页 |
| 1.5 论文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 分子模拟基本理论与熔石英洁净度表征 | 第18-26页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 分子动力学仿真理论 | 第18-22页 |
| 2.3 熔石英洁净清洗工艺流程 | 第22-24页 |
| 2.4 熔石英表面洁净度表征方法 | 第24-25页 |
| 2.4.1 定性表征 | 第24-25页 |
| 2.4.2 定量表征 | 第25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 硅油在熔石英表面吸附与去除的仿真研究 | 第26-40页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 建模方法与仿真参数设置 | 第26-29页 |
| 3.3 硅油在熔石英表面吸附 | 第29-33页 |
| 3.3.1 建模与模拟方法 | 第29-30页 |
| 3.3.2 仿真结果及讨论 | 第30-33页 |
| 3.4 硅油在熔石英表面脱附与残留机制分析 | 第33-39页 |
| 3.4.1 建模与模拟方法 | 第33-34页 |
| 3.4.2 仿真结果及讨论 | 第34-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 接触角法表征熔石英表面洁净度的仿真研究 | 第40-54页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 水滴在不同洁净度熔石英表面吸附 | 第40-50页 |
| 4.2.1 建模与模拟方法 | 第40-43页 |
| 4.2.2 水滴在不同洁净度熔石英表面吸附过程分析 | 第43-45页 |
| 4.2.3 水滴接触角测量方法 | 第45-47页 |
| 4.2.4 水滴在不同洁净度熔石英表面稳定吸附状态分析 | 第47-50页 |
| 4.3 熔石英表面粗糙结构对润湿性的影响 | 第50-53页 |
| 4.3.1 粗糙表面润湿理论 | 第50-51页 |
| 4.3.2 模拟方法与结果讨论 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 熔石英表面洁净度表征实验与洁净质量评价 | 第54-69页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 不同洁净度熔石英样本的制备 | 第54-58页 |
| 5.2.1 熔石英样本的加工过程 | 第54-57页 |
| 5.2.2 熔石英样本的分组清洗过程 | 第57-58页 |
| 5.3 水滴接触角实验和XPS检测实验 | 第58-63页 |
| 5.3.1 实验方法与设备 | 第58-59页 |
| 5.3.2 检测结果与分析 | 第59-63页 |
| 5.4 不同因素对熔石英表面接触角测量的影响 | 第63-68页 |
| 5.4.1 表面粗糙度对熔石英表面接触角测量的影响 | 第63-64页 |
| 5.4.2 冻结时间对熔石英表面接触角测量的影响 | 第64-66页 |
| 5.4.3 水滴电导率对熔石英表面接触角测量的影响 | 第66-67页 |
| 5.4.4 水滴体积对熔石英表面接触角测量的影响 | 第67-68页 |
| 5.5 本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
