光学元件表面的洁净风刀冲扫技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题的来源和研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第10-14页 |
| 1.2.1 国内外对ICF装置的洁净度规定 | 第10-11页 |
| 1.2.2 洁净技术的研究现状及分析 | 第11-14页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 微粒与光学元件表面的粘附力分析 | 第16-28页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 粘附的表面能机理 | 第16-17页 |
| 2.3 微粒粘附力分析与计算 | 第17-25页 |
| 2.3.1 范德华力 | 第17-20页 |
| 2.3.2 静电力 | 第20-24页 |
| 2.3.3 重力 | 第24页 |
| 2.3.4 毛细粘附力 | 第24-25页 |
| 2.4 带电微粒总粘附力分析与计算 | 第25-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 粘附颗粒去除模型的研究 | 第28-39页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 粘附颗粒去除方式的分类 | 第28-29页 |
| 3.3 风刀吹扫的建模与流体场的分析 | 第29-34页 |
| 3.3.1 计算流体力学基本理论 | 第29-30页 |
| 3.3.2 仿真模型的建立 | 第30-31页 |
| 3.3.3 光学元件表面的动压强分布研究 | 第31-34页 |
| 3.4 风刀对粘附微粒的去除分析 | 第34-38页 |
| 3.4.1 颗粒在流场中的受力分类 | 第34-35页 |
| 3.4.2 去除力学模型的建立与分析 | 第35-37页 |
| 3.4.3 对粘附颗粒去除效果的理论分析 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 风刀冲扫系统的仿真研究 | 第39-49页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 气-固两相流基本理论 | 第39-41页 |
| 4.2.1 离散单元法的基本理论 | 第39-40页 |
| 4.2.2 CFD-DEM耦合基本理论 | 第40-41页 |
| 4.3 风刀冲扫系统仿真模型的建立 | 第41-43页 |
| 4.3.1 仿真区域的建立 | 第42页 |
| 4.3.2 颗粒粘附力的编程 | 第42-43页 |
| 4.3.3 EDEM中粘附力插件的编译 | 第43页 |
| 4.4 风刀冲扫系统的仿真研究 | 第43-48页 |
| 4.4.1 风刀对粘附颗粒去除效果的仿真 | 第44-46页 |
| 4.4.2 风幕对外来颗粒隔离效果的仿真 | 第46-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 风刀冲扫系统的实验研究 | 第49-59页 |
| 5.1 引言 | 第49页 |
| 5.2 实验设计 | 第49-52页 |
| 5.2.1 实验方案与设备 | 第49-50页 |
| 5.2.2 微细颗粒的选择 | 第50页 |
| 5.2.3 光学元件吹扫实验步骤与数据处理 | 第50-51页 |
| 5.2.4 光学元件风幕隔离实验步骤与数据处理 | 第51-52页 |
| 5.3 风刀去除效果的实验结果与分析 | 第52-56页 |
| 5.3.1 实验结果 | 第52-55页 |
| 5.3.2 实验结果分析 | 第55-56页 |
| 5.4 风幕隔离效果的实验结果与分析 | 第56-58页 |
| 5.4.1 实验结果 | 第56-58页 |
| 5.4.2 实验结果分析 | 第58页 |
| 5.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
