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AZ31镁合金表面锶磷化膜的制备及其耐腐蚀性能研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第11-23页
    1.1 镁概述第11-12页
    1.2 镁合金第12-17页
        1.2.1 镁合金的分类第12页
        1.2.2 镁合金的牌号第12-13页
        1.2.3 镁合金的优点及应用第13-14页
        1.2.4 镁合金的腐蚀第14-17页
    1.3 化学转化膜第17-19页
        1.3.1 磷酸盐转化膜第18页
        1.3.2 磷化膜封孔处理第18-19页
    1.4 疏水表面第19页
    1.5 国内外研究现状第19-21页
    1.6 本课题的研究目的和意义第21-23页
第2章 实验准备及产物表征第23-27页
    2.1 实验材料、试剂及仪器第23-24页
    2.2 产物表征第24-26页
        2.2.1 X射线衍射第24页
        2.2.2 扫描电子显微镜-能谱仪第24-25页
        2.2.3 膜层厚度测试第25页
        2.2.4 接触角测试第25页
        2.2.5 电化学测试第25-26页
    2.3 本章小结第26-27页
第3章 锶磷化膜的制备及其耐腐蚀性能研究第27-51页
    3.1 AZ31镁合金基底前处理第27页
    3.2 锶磷化膜的制备方法第27-28页
    3.3 锶磷化膜的表征第28-32页
        3.3.1 XRD表征第28页
        3.3.2 SEM表征第28-30页
        3.3.3 EDS表征第30-31页
        3.3.4 膜层厚度第31-32页
    3.4 锶磷化膜的耐腐蚀性能第32-33页
    3.5 反应温度对锶磷化膜性质及性能的影响第33-40页
        3.5.1 宏观图像第33-34页
        3.5.2 XRD表征第34-35页
        3.5.3 微观形貌(SEM)第35-37页
        3.5.4 膜层厚度第37-38页
        3.5.5 电化学阻抗谱(EIS)第38-39页
        3.5.6 动电位极化曲线(IE)第39-40页
    3.6 反应时间对锶磷化膜性质及性能的影响第40-49页
        3.6.1 宏观图像第40页
        3.6.2 XRD表征第40-42页
        3.6.3 微观形貌(SEM)第42-45页
        3.6.4 膜层厚度第45页
        3.6.5 电化学阻抗谱(EIS)第45-47页
        3.6.6 动电位极化曲线(IE)第47-49页
    3.7 本章小结第49-51页
第4章 锶磷化膜封孔实验第51-57页
    4.1 锶磷化膜封孔处理实验方法第51页
    4.2 封孔处理后膜层的表征第51-54页
        4.2.1 EDS表征第51-53页
        4.2.2 SEM表征第53-54页
        4.2.3 膜层厚度测试第54页
    4.3 封孔后膜层的耐腐蚀性能第54-56页
        4.3.1 电化学阻抗谱(EIS)第54-55页
        4.3.2 动电位极化曲线(IE)第55-56页
    4.4 本章小结第56-57页
第5章 氟硅烷修饰锶磷化膜表面构筑疏水膜层第57-63页
    5.1 疏水表面的构筑第57页
    5.2 疏水膜层的表征第57-60页
        5.2.1 SEM表征第57-58页
        5.2.2 EDS表征第58-59页
        5.2.3 膜层厚度第59页
        5.2.4 静态接触角测试第59-60页
    5.3 疏水膜层的耐腐蚀性能第60-62页
        5.3.1 电化学阻抗谱(EIS)第60-61页
        5.3.2 动电位极化曲线(IE)第61-62页
    5.4 本章小结第62-63页
结论第63-65页
参考文献第65-73页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第73-75页
致谢第75页

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