AZ31镁合金表面锶磷化膜的制备及其耐腐蚀性能研究
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 镁概述 | 第11-12页 |
1.2 镁合金 | 第12-17页 |
1.2.1 镁合金的分类 | 第12页 |
1.2.2 镁合金的牌号 | 第12-13页 |
1.2.3 镁合金的优点及应用 | 第13-14页 |
1.2.4 镁合金的腐蚀 | 第14-17页 |
1.3 化学转化膜 | 第17-19页 |
1.3.1 磷酸盐转化膜 | 第18页 |
1.3.2 磷化膜封孔处理 | 第18-19页 |
1.4 疏水表面 | 第19页 |
1.5 国内外研究现状 | 第19-21页 |
1.6 本课题的研究目的和意义 | 第21-23页 |
第2章 实验准备及产物表征 | 第23-27页 |
2.1 实验材料、试剂及仪器 | 第23-24页 |
2.2 产物表征 | 第24-26页 |
2.2.1 X射线衍射 | 第24页 |
2.2.2 扫描电子显微镜-能谱仪 | 第24-25页 |
2.2.3 膜层厚度测试 | 第25页 |
2.2.4 接触角测试 | 第25页 |
2.2.5 电化学测试 | 第25-26页 |
2.3 本章小结 | 第26-27页 |
第3章 锶磷化膜的制备及其耐腐蚀性能研究 | 第27-51页 |
3.1 AZ31镁合金基底前处理 | 第27页 |
3.2 锶磷化膜的制备方法 | 第27-28页 |
3.3 锶磷化膜的表征 | 第28-32页 |
3.3.1 XRD表征 | 第28页 |
3.3.2 SEM表征 | 第28-30页 |
3.3.3 EDS表征 | 第30-31页 |
3.3.4 膜层厚度 | 第31-32页 |
3.4 锶磷化膜的耐腐蚀性能 | 第32-33页 |
3.5 反应温度对锶磷化膜性质及性能的影响 | 第33-40页 |
3.5.1 宏观图像 | 第33-34页 |
3.5.2 XRD表征 | 第34-35页 |
3.5.3 微观形貌(SEM) | 第35-37页 |
3.5.4 膜层厚度 | 第37-38页 |
3.5.5 电化学阻抗谱(EIS) | 第38-39页 |
3.5.6 动电位极化曲线(IE) | 第39-40页 |
3.6 反应时间对锶磷化膜性质及性能的影响 | 第40-49页 |
3.6.1 宏观图像 | 第40页 |
3.6.2 XRD表征 | 第40-42页 |
3.6.3 微观形貌(SEM) | 第42-45页 |
3.6.4 膜层厚度 | 第45页 |
3.6.5 电化学阻抗谱(EIS) | 第45-47页 |
3.6.6 动电位极化曲线(IE) | 第47-49页 |
3.7 本章小结 | 第49-51页 |
第4章 锶磷化膜封孔实验 | 第51-57页 |
4.1 锶磷化膜封孔处理实验方法 | 第51页 |
4.2 封孔处理后膜层的表征 | 第51-54页 |
4.2.1 EDS表征 | 第51-53页 |
4.2.2 SEM表征 | 第53-54页 |
4.2.3 膜层厚度测试 | 第54页 |
4.3 封孔后膜层的耐腐蚀性能 | 第54-56页 |
4.3.1 电化学阻抗谱(EIS) | 第54-55页 |
4.3.2 动电位极化曲线(IE) | 第55-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-57页 |
第5章 氟硅烷修饰锶磷化膜表面构筑疏水膜层 | 第57-63页 |
5.1 疏水表面的构筑 | 第57页 |
5.2 疏水膜层的表征 | 第57-60页 |
5.2.1 SEM表征 | 第57-58页 |
5.2.2 EDS表征 | 第58-59页 |
5.2.3 膜层厚度 | 第59页 |
5.2.4 静态接触角测试 | 第59-60页 |
5.3 疏水膜层的耐腐蚀性能 | 第60-62页 |
5.3.1 电化学阻抗谱(EIS) | 第60-61页 |
5.3.2 动电位极化曲线(IE) | 第61-62页 |
5.4 本章小结 | 第62-63页 |
结论 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-73页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第73-75页 |
致谢 | 第75页 |