| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 低温红外目标源系统国内外研究现状及分析 | 第9-14页 |
| 1.2.1 低温红外目标源系统国外研究现状 | 第9-12页 |
| 1.2.2 低温红外目标源系统国内研究现状 | 第12-13页 |
| 1.2.3 低温红外目标源系统研究现状分析 | 第13-14页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 低温红外目标源系统的整体结构设计及理论基础分析 | 第15-33页 |
| 2.1 引言 | 第15页 |
| 2.2 低温红外目标源系统技术指标及总体方案设计 | 第15-19页 |
| 2.2.1 低温红外目标源系统的技术指标要求 | 第15-16页 |
| 2.2.2 低温红外目标源系统的结构分析与比较 | 第16-18页 |
| 2.2.3 低温红外目标源系统的总体方案设计 | 第18-19页 |
| 2.3 低温红外目标源系统热传导理论 | 第19-24页 |
| 2.3.1 稳态热传导基本定理 | 第19-21页 |
| 2.3.2 对流传热问题的基本理论 | 第21-22页 |
| 2.3.3 有限元分析方法 | 第22-24页 |
| 2.4 低温红外目标源系统热辐射理论 | 第24-27页 |
| 2.4.1 黑体辐射的基本定律 | 第24-26页 |
| 2.4.2 角系数的计算 | 第26-27页 |
| 2.5 低温红外目标源系统 PID 控温技术 | 第27-31页 |
| 2.5.1 低温红外目标源系统基本控温方法 | 第27-28页 |
| 2.5.2 数字 PID 控制算法 | 第28-31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 低温黑体辐射源系统结构设计及温度场分析 | 第33-47页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 低温黑体辐射源结构设计及制冷条件下温度场分析 | 第33-42页 |
| 3.2.1 圆筒式结构设计及制冷条件下温度场分析 | 第34-35页 |
| 3.2.2 空腔式结构设计及制冷条件下温度场分析 | 第35-38页 |
| 3.2.3 导管式结构设计及制冷条件下温度场分析 | 第38-40页 |
| 3.2.4 腔内凹槽式结构设计及制冷条件下温度场分析 | 第40-42页 |
| 3.3 制冷条件下温度测试实验及实验结果分析 | 第42-43页 |
| 3.4 低温黑体辐射源加热功率分析 | 第43-46页 |
| 3.4.1 低温黑体辐射源系统加热功率分析 | 第43-44页 |
| 3.4.2 低温黑体辐射源系统加热条件下温度场分布 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 低温红外目标源系统控温系统设计 | 第47-54页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 低温红外目标源控温系统的硬件设计 | 第47-51页 |
| 4.2.1 低温红外目标源控温系统的总体结构及原理 | 第47-48页 |
| 4.2.2 控温系统的器件选择 | 第48-49页 |
| 4.2.3 控温电路端口的分配 | 第49-50页 |
| 4.2.4 控温系统电气设计 | 第50-51页 |
| 4.3 低温红外目标源控温系统的软件设计 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 低温红外目标源系统杂散光影响理论研究 | 第54-61页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 杂散光来源分析与计算方法 | 第54-56页 |
| 5.2.1 杂散光来源分析 | 第54-55页 |
| 5.2.2 杂散光的计算方法 | 第55-56页 |
| 5.3 杂散光的影响分析 | 第56-59页 |
| 5.4 辐射校正表 | 第59-60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及其他成果 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
