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温敏型及基于低共熔溶剂印迹整体柱的制备及评价

中文摘要第4-5页
Abstract第5-6页
符号说明第9-10页
第一章 前言第10-17页
    1.1 分子印迹技术的基本原理第10-11页
    1.2 分子印迹聚合物的性质第11页
    1.3 分子印迹聚合物的制备技术第11-12页
    1.4 分子印迹聚合物的制备方法第12-14页
    1.5 整体柱技术第14-15页
    1.6 选题意义及研究内容第15-17页
第二章 原位聚合法制备温控热敏型酮洛芬分子印迹整体柱第17-40页
    2.1 引言第17-18页
    2.2 仪器及试剂第18-20页
        2.2.1 仪器第18-19页
        2.2.2 试剂第19-20页
    2.3 整体柱的制备方法第20-22页
    2.4 整体柱的形貌及空隙研究第22页
    2.5 结果与讨论第22-39页
        2.5.1 整体柱制备参数的研究第22-27页
        2.5.2 整体柱色谱参数的研究第27-35页
        2.5.3 印迹整体柱的表征第35-39页
    2.6 小结第39-40页
第三章 以西替利嗪为模板的分子印迹整体柱的制备和研究第40-64页
    3.1 引言第40页
    3.2 仪器及试剂第40-42页
        3.2.1 仪器第40-41页
        3.2.2 试剂第41-42页
    3.3 整体柱的制备方法第42-45页
        3.3.1 西替利嗪印迹的高效液相整体柱的制备第42-45页
        3.3.2 整体柱的形貌及孔隙度研究第45页
    3.4 结果与讨论第45-63页
        3.4.1 整体柱制备参数的研究第45-53页
        3.4.2 整体柱色谱参数的研究第53-57页
        3.4.3 整体柱的物理表征第57-63页
    3.5 小结第63-64页
结论第64-65页
参考文献第65-70页
发表论文和参加科研情况说明第70-71页
综述第71-84页
    综述参考文献第79-84页
致谢第84页

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