| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第12-16页 |
| 1.2.1 半导体光催化原理及特点 | 第12-13页 |
| 1.2.2 提升光催化活性的有效方法 | 第13-16页 |
| 1.3 光催化材料的应用 | 第16-19页 |
| 1.3.1 降解有机污染物 | 第17-18页 |
| 1.3.2 光催化水产氢气 | 第18页 |
| 1.3.3 光催化杀菌消毒 | 第18-19页 |
| 1.3.4 金属光电防腐 | 第19页 |
| 1.4 光催化材料的合成方法 | 第19-21页 |
| 1.4.1 固相反应 | 第19-20页 |
| 1.4.2 溶胶凝胶法 | 第20页 |
| 1.4.3 水热合成法 | 第20-21页 |
| 1.5 铋系半导体光催化材料 | 第21-24页 |
| 1.5.1 一元铋系半导体光催化材料 | 第21-22页 |
| 1.5.2 二元铋系半导体光催化材料 | 第22-23页 |
| 1.5.3 卤氧化铋系半导体光催化材料 | 第23-24页 |
| 1.6 选题意义和研究内容 | 第24-26页 |
| 2 固相法合成Bi_4NbO_8Cl | 第26-37页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-29页 |
| 2.2.1 实验药品及仪器 | 第27-28页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第28-29页 |
| 2.2.3 样品的表征 | 第29页 |
| 2.2.4 样品的光催化性能测试 | 第29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-35页 |
| 2.3.1 煅烧温度对合成Bi_3NbO_7的影响 | 第29-31页 |
| 2.3.2 不同晶面BiOCl对Bi_4NbO_8ClXRD图谱的影响 | 第31-33页 |
| 2.3.3 不同BiOCl与Bi_3NbO_7反应对Bi_4NbO_8Cl吸光性能的影响 | 第33-34页 |
| 2.3.4 0-Bi_4NbO_8Cl、2-Bi_4NbO_8Cl、1-Bi_4NbO_8Cl的SEM图及粒径大小 | 第34-35页 |
| 2.3.5 0-Bi_4NbO_8Cl、2-Bi_4NbO_8Cl、1-Bi_4NbO_8Cl的光催化性能评估 | 第35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 3 利用溶胶凝胶法合成具有(001)晶面暴露的Bi_4NbO_8Cl | 第37-50页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 实验部分 | 第37-40页 |
| 3.2.1 实验药品及仪器 | 第37-39页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第39页 |
| 3.2.3 样品的表征 | 第39页 |
| 3.2.4 样品的光催化性能测试 | 第39-40页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第40-48页 |
| 3.3.1 Sg、SS-Bi_4NbO_8Cl的形貌及晶体结构 | 第40-41页 |
| 3.3.2 Sg、SS-Bi_4NbO_8Cl的XRD图谱 | 第41-43页 |
| 3.3.3 Sg-Bi_4NbO_8Cl的比表面积 | 第43-44页 |
| 3.3.4 Sg、SS-Bi_4NbO_8Cl的UV-ViS图谱及能带计算 | 第44-46页 |
| 3.3.5 Sg、SS-Bi_4NbO_8Cl的光催化性能评估 | 第46-47页 |
| 3.3.6 Sg-Bi_4NbO_8Cl的光催化稳定性能评估 | 第47-48页 |
| 3.3.7 Sg-Bi_4NbO_8Cl的光催化降解机理 | 第48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 结论与展望 | 第50-52页 |
| 4.1 结论与创新 | 第50-51页 |
| 4.1.1 结论 | 第50-51页 |
| 4.1.2 创新之处 | 第51页 |
| 4.2 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的科研及实践成果 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 作者简介 | 第61-62页 |
