摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 层状过渡金属硫族化合物 | 第10-14页 |
1.3 过渡金属硫族化合物的相变问题 | 第14-15页 |
1.4 过渡金属硫族化合物的插层化学 | 第15-16页 |
1.5 本论文的研究目的和内容安排 | 第16-18页 |
第2章 研究方法 | 第18-34页 |
2.1 引言 | 第18-19页 |
2.2 透射电子显微镜基本原理及相关技术 | 第19-29页 |
2.2.1 电子与物质相互作用 | 第19-21页 |
2.2.2 透射电子显微镜结构组成 | 第21-23页 |
2.2.3 透射电子显微镜成像原理 | 第23-24页 |
2.2.4 透射电子显微镜常用工作模式 | 第24-25页 |
2.2.5 衍射模式 | 第25-27页 |
2.2.6 成像模式 | 第27-28页 |
2.2.7 透射电子显微镜谱学分析 | 第28-29页 |
2.3 原位TEM技术 | 第29-34页 |
2.3.1 原位TEM介绍 | 第29-30页 |
2.3.2 原位TEM电化学实验 | 第30-34页 |
第3章 二硫化钼碱金属嵌入研究 | 第34-72页 |
3.1 引言 | 第34-35页 |
3.2 二硫化钼介绍 | 第35-47页 |
3.2.1 MoS_2结构和性质 | 第35-37页 |
3.2.2 MoS_2结构表征 | 第37-38页 |
3.2.3 MoS_2低倍像、高分辨像以及电子衍射谱 | 第38-41页 |
3.2.4 2H-MoS_2和1T-MoS_2电子衍射区别 | 第41-46页 |
3.2.5 MoS_2相变研究 | 第46-47页 |
3.3 二硫化钼嵌锂研究 | 第47-55页 |
3.3.1 实验方案 | 第48页 |
3.3.2 MoS_2纳米片动态锂化过程 | 第48-51页 |
3.3.3 MoS_2纳米片锂化过程结构变化 | 第51-55页 |
3.4 二硫化钼嵌钠研究 | 第55-70页 |
3.4.1 实验方案 | 第56-57页 |
3.4.2 MoS_2纳米片动态钠化过程 | 第57-58页 |
3.4.3 MoS_2纳米片钠化过程结构变化 | 第58-59页 |
3.4.4 钠化初期:中间相Na_(0.25)MoS | 第59-64页 |
3.4.5 钠化下一阶段:Na_(0.5)MoS_2以及2H-1T相变 | 第64-66页 |
3.4.6 相变机理探讨 | 第66-70页 |
3.5 本章小结 | 第70-72页 |
第4章 二硫化钨碱金属嵌入研究 | 第72-88页 |
4.1 引言 | 第72页 |
4.2 二硫化钨介绍及其结构表征 | 第72-75页 |
4.3 二硫化钨锂离子、钠离子嵌入研究 | 第75-78页 |
4.3.1 WS_2锂化动力学过程及其结构变化 | 第75-78页 |
4.3.2 WS_2钠化过程结构变化 | 第78页 |
4.4 MoS_2和WS_2锂化、钠化过程总结 | 第78-86页 |
4.4.1 锂化过程概述 | 第78-79页 |
4.4.2 锂化中2×2超衍射点的进一步分析 | 第79-82页 |
4.4.3 锂化过程生成Li_2S的进一步讨论 | 第82-83页 |
4.4.4 钠化过程概述 | 第83-84页 |
4.4.5 钠化过程中出现的超结构补充 | 第84-85页 |
4.4.6 碱金属嵌入过程出现的超结构类型总结 | 第85-86页 |
4.5 本章小结 | 第86-88页 |
第5章 总结与展望 | 第88-90页 |
参考文献 | 第90-106页 |
个人简历及发表文章目录 | 第106-108页 |
致谢 | 第108-109页 |