| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第20-48页 |
| 1.1 垂直异质外延纳米复合薄膜研究进展 | 第20-36页 |
| 1.1.1 垂直异质外延纳米复合薄膜简介 | 第20-22页 |
| 1.1.2 垂直异质外延纳米复合薄膜的制备方法 | 第22-24页 |
| 1.1.3 垂直异质外延纳米复合薄膜的微结构调控及多功能性 | 第24-28页 |
| 1.1.4 垂直异质外延纳米复合薄膜的生长机理研究现状 | 第28-36页 |
| 1.2 WO_3-BiVO_4异质结构研究 | 第36-46页 |
| 1.2.1 WO_3晶体结构 | 第36-39页 |
| 1.2.2 BiVO_4晶体结构 | 第39-40页 |
| 1.2.3 WO_3-BiVO_4异质结构及水分解性能研究进展 | 第40-45页 |
| 1.2.4 WO_3-BiVO_4垂直异质外延纳米结构 | 第45-46页 |
| 1.3 本论文选题依据和研究内容 | 第46-48页 |
| 1.3.1 本论文选题依据 | 第46-47页 |
| 1.3.2 本论文的研究内容 | 第47-48页 |
| 第二章 研究方法与技术 | 第48-62页 |
| 2.1 PLD薄膜生长 | 第48-49页 |
| 2.2 透射电镜微结构研究 | 第49-54页 |
| 2.2.1 透射电镜基本结构 | 第49-51页 |
| 2.2.2 高分辨透射电镜成像原理 | 第51-53页 |
| 2.2.3 扫描透射电镜成像原理 | 第53-54页 |
| 2.3 透射电镜样品制备 | 第54-60页 |
| 2.3.1 常规透射电镜样品制备 | 第54-56页 |
| 2.3.2 原位透射电镜样品制备 | 第56-60页 |
| 2.4 本论文用到的其他研究方法与技术 | 第60-62页 |
| 第三章 组分对WO_3-BiVO_4自组装纳米复合薄膜微结构的影响 | 第62-76页 |
| 3.1 引言 | 第62-63页 |
| 3.2 实验方法 | 第63-64页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第63页 |
| 3.2.2 微结构表征与分析 | 第63-64页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第64-74页 |
| 3.3.1 基本微观结构和形貌演化 | 第64-67页 |
| 3.3.2 不同晶相和界面结构演化 | 第67-71页 |
| 3.3.3 WO_3/BiVO_4两相之间的扩散及失配应力作用 | 第71-74页 |
| 3.4 本章小结 | 第74-76页 |
| 第四章 沉积温度对WO_3-BiVO_4自组装纳米复合薄膜微结构的影响 | 第76-90页 |
| 4.1 引言 | 第76页 |
| 4.2 实验方法 | 第76-77页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第76页 |
| 4.2.2 微结构表征和分析 | 第76-77页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第77-88页 |
| 4.3.1 不同温度下复合薄膜的基本形貌 | 第77-80页 |
| 4.3.2 不同温度下的结晶相和界面结构 | 第80-84页 |
| 4.3.3 温度对于复合薄膜微结构演化的影响 | 第84-86页 |
| 4.3.4 不同温度下结晶相之间的竞争 | 第86-88页 |
| 4.4 本章小结 | 第88-90页 |
| 第五章 氧化铟锡电极对于WO_3-BiVO_4自组装纳米复合薄膜微结构影响 | 第90-102页 |
| 5.1 引言 | 第90页 |
| 5.2 实验方法 | 第90-91页 |
| 5.2.1 样品制备 | 第90-91页 |
| 5.2.2 微结构表征和分析 | 第91页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第91-100页 |
| 5.3.1 基本微观结构和形貌变化 | 第91-94页 |
| 5.3.2 晶相和界面结构 | 第94-97页 |
| 5.3.3 ITO电极对WO_3-BiVO_4VHN薄膜生长的影响 | 第97-99页 |
| 5.3.4 WO_3-Bi2WO6-BiVO_4双异质结的形成及其水分解性能 | 第99-100页 |
| 5.4 本章小结 | 第100-102页 |
| 第六章 非晶WO_3-BiVO_4复合薄膜结晶和相变过程的原位退火研究 | 第102-116页 |
| 6.1 引言 | 第102-103页 |
| 6.2 实验方法 | 第103-105页 |
| 6.2.1 非晶薄膜非原位退火 | 第103页 |
| 6.2.2 非晶薄膜原位退火 | 第103-104页 |
| 6.2.3 微结构表征和分析 | 第104-105页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第105-114页 |
| 6.3.1 非晶薄膜非原位退火后的微结构变化 | 第105-109页 |
| 6.3.2 非晶薄膜原位退火相变过程 | 第109-112页 |
| 6.3.3 不同退火条件下的相变分析 | 第112-113页 |
| 6.3.4 原位相变研究总结 | 第113-114页 |
| 6.4 本章小结 | 第114-116页 |
| 第七章 总结与展望 | 第116-120页 |
| 7.1 结论 | 第116-118页 |
| 7.2 展望 | 第118-120页 |
| 参考文献 | 第120-142页 |
| 作者简历及在学期间所取得的科研成果 | 第142-144页 |
| 致谢 | 第144-145页 |
