MgF缓冲气体冷却和分子激光冷却的理论与实验研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第16-33页 |
| 1.1 引言 | 第16-18页 |
| 1.2 分子激光冷却的一般理论 | 第18-22页 |
| 1.3 分子激光冷却的研究进展 | 第22-28页 |
| 1.4 分子磁光囚禁的研究进展 | 第28-31页 |
| 1.5 本文的研究工作 | 第31-33页 |
| 第二章 MgF分子的能级结构 | 第33-46页 |
| 2.1 引言 | 第33-34页 |
| 2.2 双原子分子能级结构 | 第34-38页 |
| 2.2.1 能级结构概述 | 第34-36页 |
| 2.2.2 角动量耦合 | 第36-37页 |
| 2.2.3 跃迁选择定则 | 第37-38页 |
| 2.3 MgF分子的能级结构 | 第38-44页 |
| 2.3.1 电子跃迁与振动跃迁 | 第39-41页 |
| 2.3.2 转动跃迁与超精细结构 | 第41-43页 |
| 2.3.3 暗态 | 第43-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第三章 低温分子束源 | 第46-71页 |
| 3.1 引言 | 第46页 |
| 3.2 缓冲气体冷却概述 | 第46-52页 |
| 3.3 缓冲气体束源 | 第52-61页 |
| 3.3.1 低温腔结构 | 第52-56页 |
| 3.3.2 低温真空系统 | 第56-59页 |
| 3.3.3 缓冲气体冷却实验操作 | 第59-61页 |
| 3.4 MgF分子探测装置 | 第61-62页 |
| 3.5 MgF分子光谱 | 第62-69页 |
| 3.5.1 多普勒增宽 | 第62-63页 |
| 3.5.2 分子吸收谱带的精细结构 | 第63-66页 |
| 3.5.3 由吸收谱带确定A态是正态还是倒态 | 第66-68页 |
| 3.5.4 由LIF信号观测超精细光谱 | 第68-69页 |
| 3.6 本章小结 | 第69-71页 |
| 第四章 钛宝石激光器及其稳频系统 | 第71-81页 |
| 4.1 引言 | 第71-72页 |
| 4.2 钛宝石激光器 | 第72-74页 |
| 4.3 激光器稳频系统 | 第74-76页 |
| 4.4 稳频后的激光线宽及频率稳定性 | 第76-79页 |
| 4.5 本章小结 | 第79-81页 |
| 第五章 MgF分子激光减速方案 | 第81-112页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 自发辐射力减速与冷却 | 第81-88页 |
| 5.2.1 理论模型 | 第81-85页 |
| 5.2.2 激光扫频减速方案 | 第85-86页 |
| 5.2.3 蒙特卡洛模拟 | 第86-88页 |
| 5.3 受激辐射力减速与冷却 | 第88-110页 |
| 5.3.1 理论模型 | 第89-94页 |
| 5.3.2 情形一：轻分子(以MgF为例) | 第94-98页 |
| 5.3.3 情形二：重分子(以YbF为例) | 第98-110页 |
| 5.4 本章小结 | 第110-112页 |
| 第六章 冷分子应用：以分子沉积为例 | 第112-126页 |
| 6.1 引言 | 第112页 |
| 6.2 表面等离激元场 | 第112-114页 |
| 6.3 二维表面光学晶格 | 第114-121页 |
| 6.4 二维表面晶格场中的分子沉积 | 第121-124页 |
| 6.5 本章小结 | 第124-126页 |
| 第七章 总结与展望 | 第126-131页 |
| 7.1 本文研究内容的总结 | 第126-128页 |
| 7.2 本文创新之处 | 第128-129页 |
| 7.3 未来工作展望 | 第129-131页 |
| 参考文献 | 第131-142页 |
| 作者简历及科研成果 | 第142-145页 |
| 致谢 | 第145-146页 |
