| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 印染废水概况 | 第10-13页 |
| 1.1.1 印染废水的污染现状 | 第10页 |
| 1.1.2 印染废水的特点和危害 | 第10-11页 |
| 1.1.3 印染废水的处理方法 | 第11-13页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第13-15页 |
| 1.2.1 半导体能带理论 | 第13页 |
| 1.2.2 半导体光催化基本原理 | 第13-15页 |
| 1.3 TiO_2光催化技术的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.3.1 TiO_2的基本性质 | 第15-16页 |
| 1.3.2 TiO_2的改性方法 | 第16-18页 |
| 1.4 氮化碳(C_3N_4)研究综述 | 第18-20页 |
| 1.4.1 C_3N_4基本性质 | 第18-19页 |
| 1.4.2 g-C_3N_4的改性方法 | 第19-20页 |
| 1.5 本文研究思路及研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究思路 | 第20-21页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的制备、表征及光催化性能测试 | 第22-27页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第22页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.2 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的制备与表征 | 第23-25页 |
| 2.2.1 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的制备 | 第23页 |
| 2.2.2 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的表征 | 第23-25页 |
| 2.3 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料光催化性能测试 | 第25-27页 |
| 2.3.1 实验装置 | 第25页 |
| 2.3.2 实验过程 | 第25页 |
| 2.3.3 测试方法 | 第25-26页 |
| 2.3.4 复合材料的重复性分析方法 | 第26页 |
| 2.3.5 光催化反应活性自由基捕获方法 | 第26-27页 |
| 第三章 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的表征结果分析及光催化活性研究 | 第27-43页 |
| 3.1 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的表征结果分析 | 第27-34页 |
| 3.1.1 XRD分析 | 第27-28页 |
| 3.1.2 FT-IR分析 | 第28页 |
| 3.1.3 SEM分析 | 第28-29页 |
| 3.1.4 EDX分析 | 第29-30页 |
| 3.1.5 TEM分析 | 第30-31页 |
| 3.1.6 XPS分析 | 第31-33页 |
| 3.1.7 UV-visDRS分析 | 第33-34页 |
| 3.2 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的光催化活性研究 | 第34-40页 |
| 3.2.1 制备条件对g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料光催化活性的影响 | 第34-38页 |
| 3.2.2 反应条件对g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料光催化活性的影响 | 第38-40页 |
| 3.3 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料的重复利用研究 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料光催化降解机理分析 | 第43-49页 |
| 4.1 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料光催化降解AO7过程分析 | 第43-45页 |
| 4.1.1 紫外-可见光谱分析 | 第43-44页 |
| 4.1.2 化学需氧量变化分析 | 第44-45页 |
| 4.2 g-C_3N_4/TiO_2纳米复合材料光催化降解机理探讨 | 第45-48页 |
| 4.2.1 活性自由基捕获分析 | 第45-47页 |
| 4.2.2 光催化降解机理分析 | 第47-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 结论与展望 | 第49-51页 |
| 5.1 结论 | 第49-50页 |
| 5.2 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 作者简介 | 第58页 |
