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介质覆盖基片集成波导缝隙天线研究

摘要第12-14页
Abstract第14-15页
第一章 绪论第16-32页
    1.1 研究背景及意义第16-19页
        1.1.1 传统金属波导缝隙天线简介第16-17页
        1.1.2 基片集成波导缝隙天线的研究意义第17-19页
    1.2 研究历史及现状第19-28页
        1.2.1 波导缝隙天线的兴起和飞速发展第20-21页
        1.2.2 波导缝隙天线的成熟和广泛应用第21-22页
        1.2.3 基片集成波导缝隙天线的兴起第22-28页
    1.3 本文主要工作及章节安排第28-32页
        1.3.1 主要工作与创新点第29-30页
        1.3.2 章节安排第30-32页
第二章 介质覆盖基片集成波导单缝特性分析第32-54页
    2.1 基片集成波导特性分析第32-36页
        2.1.1 SIW等效分析方法第32-34页
        2.1.2 SIW损耗特性第34-36页
    2.2 单缝特性求解方法第36-47页
        2.2.1 矩量法求解步骤第36-40页
        2.2.2 外部区域矩阵元素求解第40-44页
        2.2.3 方法验证第44-47页
    2.3 单缝特性研究第47-52页
        2.3.1 等效并联元件假设验证第47-49页
        2.3.2 覆盖介质对缝隙性能的影响第49-51页
        2.3.3 波导高度和填充介质对缝隙性能的影响第51-52页
    2.4 本章小结第52-54页
第三章 介质覆盖平面基片集成波导缝隙阵列设计理论第54-79页
    3.1 平面阵列方向图综合第54-57页
        3.1.1 Taylor综合法第54-56页
        3.1.2 单元方向图第56-57页
    3.2 波导缝隙阵列设计流程第57-61页
        3.2.1 设计方程及其迭代求解方法第57-59页
        3.2.2 混合加权方法第59-61页
        3.2.3 多层介质覆盖情形第61页
    3.3 介质覆盖缝隙阵列互耦分析第61-71页
        3.3.1 内部互耦分析第61-65页
        3.3.2 外部互耦分析第65-71页
    3.4 低副瓣SIW缝隙阵列设计与实验验证第71-78页
    3.5 本章小结第78-79页
第四章 覆盖介质层参数优化设计第79-97页
    4.1 遗传算法简介第79-81页
    4.2 优化介质层参数以提高增益第81-85页
    4.3 优化介质层参数以降低副瓣第85-89页
    4.4 优化介质层参数以扩展带宽第89-95页
    4.5 本章小结第95-97页
第五章 介质覆盖单脉冲阵列和扫描阵列设计第97-121页
    5.1 单脉冲SIW缝隙阵列第98-114页
        5.1.1 天线整体结构第98-100页
        5.1.2 辐射阵面设计第100-104页
        5.1.3 馈电网络第104-111页
        5.1.4 介质覆盖单脉冲SIW缝隙阵列第111-114页
    5.2 扫描SIW缝隙阵列第114-120页
        5.2.1 Rotman透镜设计方法第114-119页
        5.2.2 介质覆盖扫描阵列设计第119-120页
    5.3 本章小结第120-121页
第六章 介质覆盖扇面基片集成波导缝隙阵列设计理论第121-149页
    6.1 扇形阵列方向图综合第122-124页
    6.2 设计方程推导第124-134页
        6.2.1 第一设计方程第124-128页
        6.2.2 第二设计方程第128-133页
        6.2.3 迭代设计流程第133-134页
    6.3 阵列外部互耦计算第134-142页
    6.4 阵列设计与验证第142-148页
        6.4.1 辐射阵面设计第143-144页
        6.4.2 紧凑功分器设计第144-146页
        6.4.3 相位补偿方案第146-148页
    6.5 本章小结第148-149页
第七章 全文总结及展望第149-151页
致谢第151-153页
参考文献第153-163页
作者在学期间取得的学术成果第163-164页

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