高电荷态强流激光离子源研究
中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
目录 | 第6-9页 |
第一章 前言 | 第9-14页 |
1.1 研究背景与意义 | 第9-11页 |
1.2 研究内容与思路 | 第11-14页 |
第二章 激光离子源的发展 | 第14-35页 |
2.1 激光等离子体 | 第14-25页 |
2.1.1 激光等离子体的产生 | 第15-17页 |
2.1.2 激光与等离子体的相互作用 | 第17-23页 |
2.1.2.1 等离子体震荡对激光传输的影响 | 第19-21页 |
2.1.2.2 逆韧致辐射 | 第21-23页 |
2.1.3 电离过程 | 第23-25页 |
2.1.4 激光等离子体在真空中的漂移 | 第25页 |
2.2 激光离子源的发展 | 第25-28页 |
2.3 激光离子源关键技术 | 第28-32页 |
2.4 激光等离子体直接注入方法 | 第32-35页 |
第三章 实验装置设计和研制 | 第35-116页 |
3.1 激光离子源实验装置 | 第36-37页 |
3.2 激光离子源和RFQ实验装置 | 第37页 |
3.3 激光器和激光光路设计 | 第37-57页 |
3.3.1 Nd:YAG激光器发光原理 | 第37-38页 |
3.3.2 激光器的主要参数和设备结构 | 第38-43页 |
3.3.3 调Q技术和电光调Q原理 | 第43-44页 |
3.3.4 激光源靶室外部和内部光路设计 | 第44-51页 |
3.3.5 法拉第隔离器 | 第51-52页 |
3.3.6 激光源靶室设计 | 第52-55页 |
3.3.7 光电探测器 | 第55-57页 |
3.4 RFQ加速器 | 第57-73页 |
3.4.1 RFQ简介 | 第57-60页 |
3.4.2 RFQ的基本原理 | 第60-65页 |
3.4.2.1 RFQ横向动力学 | 第63-64页 |
3.4.2.2 RFQ纵向动力学 | 第64-65页 |
3.4.3 IMP-RFQ的设计和测试 | 第65-70页 |
3.4.4 IMP-RFQ的其他辅助设备 | 第70-73页 |
3.5 激光离子源诊断系统 | 第73-89页 |
3.5.1 激光诊断设备 | 第74-75页 |
3.5.2 法拉第筒和快法拉第筒 | 第75-77页 |
3.5.3 静电偏转板 | 第77-87页 |
3.5.3.1 静电偏转板原理 | 第77-79页 |
3.5.3.2 静电偏转板分辨率 | 第79-80页 |
3.5.3.3 2 | 第80-87页 |
3.5.4 电子倍增管探测器 | 第87-88页 |
3.5.5 束流变压器 | 第88-89页 |
3.6 靶控制系统 | 第89-94页 |
3.6.1 靶材和调节支架 | 第89-90页 |
3.6.2 三维靶控制系统 | 第90-91页 |
3.6.3 自动控制系统 | 第91-94页 |
3.7 真空系统和高压系统 | 第94-97页 |
3.7.1 真空系统 | 第94-96页 |
3.7.2 高压电源系统 | 第96-97页 |
3.8 实验准直方法 | 第97-115页 |
3.8.1 固体靶材表面粗糙度的测量 | 第97-103页 |
3.8.2 束流线整体准直方案 | 第103-109页 |
3.8.3 激光靶点位置准直方案 | 第109-114页 |
3.8.4 最佳聚焦位置计算 | 第114-115页 |
3.9 本章小结 | 第115-116页 |
第四章 激光离子源产生高电荷态离子的研究 | 第116-133页 |
4.1 激光离子源实验 | 第116-120页 |
4.2 激光离子源实验结果与分析 | 第120-132页 |
4.3 本章小结 | 第132-133页 |
第五章 激光离子源和RFQ加速实验研究 | 第133-146页 |
5.1 DPIS设计 | 第133-135页 |
5.2 激光离子源和RFQ同步控制设计 | 第135-139页 |
5.3 LIS-RFQ加速实验结果 | 第139-145页 |
5.3.1 加速C离子束实验 | 第139-142页 |
5.3.2 不同射频功率下加速束流流强变化 | 第142-143页 |
5.3.3 靶材位置对加速束流流强的影响 | 第143-145页 |
5.4 LIS-RFQ实验结果分析和讨论 | 第145-146页 |
第六章 结论和展望 | 第146-151页 |
6.1 结论 | 第146-148页 |
6.2 进一步研究设想 | 第148-151页 |
参考文献 | 第151-155页 |
在学期间的研究成果 | 第155-156页 |
致谢 | 第156页 |