| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 纳米材料 | 第8-9页 |
| 1.2 一维氧化钨纳米线 | 第9-10页 |
| 1.3 氧化钨纳米线器件的应用 | 第10-13页 |
| 1.3.1 电致变色器件 | 第10-13页 |
| 1.3.2 气致变色及传感器的应用 | 第13页 |
| 1.4 氧化钨变色机理研究 | 第13-15页 |
| 1.5 本论文研究的目的和内容 | 第15-16页 |
| 第二章 实验 | 第16-20页 |
| 2.1 实验方法 | 第16-17页 |
| 2.2 纳米材料的表征方法 | 第17-20页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜（SEM） | 第17页 |
| 2.2.2 X射线衍射（XRD） | 第17页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜（TEM） | 第17-18页 |
| 2.2.4 拉曼散射光谱（Raman） | 第18-20页 |
| 第三章 可控生长一维氧化钨纳米线薄膜 | 第20-28页 |
| 3.1 引言 | 第20页 |
| 3.2 实验 | 第20-21页 |
| 3.3 数据结果与分析 | 第21-27页 |
| 3.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第四章 WO_3薄膜的气致变色及其气敏传感研究 | 第28-38页 |
| 4.1 引言 | 第28页 |
| 4.2 WO_3薄膜材料的制备 | 第28-30页 |
| 4.3 气致变色对比和机理研究 | 第30-32页 |
| 4.4 氢气传感器件的制作和性能测试 | 第32-37页 |
| 4.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第五章 稀土掺杂氧化钨纳米线薄膜研究 | 第38-46页 |
| 5.1 引言 | 第38页 |
| 5.2 稀土离子的掺杂工艺 | 第38-39页 |
| 5.3 Eu@WO_3薄膜的表征 | 第39-41页 |
| 5.4 稀土离子发光光谱与WO_3纳米线结构相变的关系 | 第41-45页 |
| 5.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 总结和工作展望 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56页 |