铁硅合金薄膜的制备及高频磁性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究的背景与意义 | 第10页 |
| 1.2 FeSi合金的基本性能 | 第10-13页 |
| 1.2.1 FeSi合金的晶体结构 | 第10-12页 |
| 1.2.2 FeSi合金的磁性能 | 第12-13页 |
| 1.3 FeSi合金的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.4 本论文的结构安排 | 第15-16页 |
| 第二章 薄膜的制备、结构表征及高频磁性能基础理论 | 第16-36页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第16页 |
| 2.2 薄膜的结构表征 | 第16-20页 |
| 2.2.1 表面形貌测量仪(台阶仪) | 第16-18页 |
| 2.2.2 X射线衍射 | 第18-19页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第19-20页 |
| 2.3 薄膜的高频磁性能 | 第20-35页 |
| 2.3.1 磁性薄膜的高频磁性能 | 第20-25页 |
| 2.3.2 谐振腔基本理论 | 第25-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 FeSi薄膜的制备及高频磁性能研究 | 第36-62页 |
| 3.1 FeSi薄膜制备工艺和分析方法 | 第36页 |
| 3.2 FeSi薄膜自旋整流效应测试方法 | 第36-37页 |
| 3.3 玻璃基底上生长FeSi薄膜 | 第37-45页 |
| 3.4 Si基底上生长FeSi薄膜 | 第45-60页 |
| 3.4.1 溅射功率对FeSi薄膜的影响 | 第45-52页 |
| 3.4.2 退火温度对FeSi薄膜的影响 | 第52-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 谐振腔测试结构的设计和仿真 | 第62-70页 |
| 4.1 谐振腔模型的设计与仿真 | 第62-66页 |
| 4.2 谐振腔实物测试 | 第66-69页 |
| 4.3 本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 结论 | 第70-71页 |
| 5.1 全文总结 | 第70页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第74-75页 |
