| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 透明导电薄膜 | 第9-17页 |
| 1.1.1 透明导电薄膜概述 | 第9-10页 |
| 1.1.2 透明导电氧化物薄膜的简介及其应用 | 第10-12页 |
| 1.1.3 TCO薄膜的透明导电机理 | 第12-15页 |
| 1.1.4 TCO薄膜的材料体系 | 第15-17页 |
| 1.2 ZnO透明导电氧化物 | 第17-18页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构和基本性质 | 第17-18页 |
| 1.2.2 ZnO-TCO薄膜的掺杂 | 第18页 |
| 1.3 铝掺杂氧化锌（AZO）薄膜的性质和研究现状 | 第18-20页 |
| 1.4 论文的研究意义 | 第20-21页 |
| 1.5 论文的研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 AZO薄膜样品的制备及测试表征 | 第22-34页 |
| 2.1 磁控溅射技术 | 第22-24页 |
| 2.1.1 磁控溅射简介 | 第22-23页 |
| 2.1.2 磁控溅射设备 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜样品制备过程 | 第24-25页 |
| 2.3 薄膜的生长 | 第25-28页 |
| 2.3.1 薄膜的生长阶段 | 第25-26页 |
| 2.3.2 溅射法制备ZnO的生长机制 | 第26-28页 |
| 2.4 薄膜的测试表征 | 第28-31页 |
| 2.4.1 薄膜厚度 | 第28-29页 |
| 2.4.2 薄膜结构 | 第29页 |
| 2.4.3 薄膜形貌 | 第29-30页 |
| 2.4.4 薄膜光学性能 | 第30页 |
| 2.4.5 薄膜电学性能 | 第30-31页 |
| 2.5 相关重要参数的计算 | 第31-34页 |
| 2.5.1 晶格常数 | 第31页 |
| 2.5.2 晶粒尺寸 | 第31-32页 |
| 2.5.3 薄膜中应力和应变 | 第32页 |
| 2.5.4 性能指数 | 第32-34页 |
| 第3章 AZO薄膜的室温制备及性能优化 | 第34-49页 |
| 3.1 背景介绍 | 第34-35页 |
| 3.2 工作气压的影响 | 第35-39页 |
| 3.3 溅射功率的影响 | 第39-44页 |
| 3.4 沉积时间的影响 | 第44-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 使用SiO_2缓冲层时AZO薄膜的制备及性能优化 | 第49-56页 |
| 4.1 SiO_2薄膜缓冲层的制备 | 第50页 |
| 4.2 使用SiO_2缓冲层后对薄膜性能的影响 | 第50-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 总结 | 第56-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |