摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第9-21页 |
1.1 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
1.2 调剖剂的研究现状及发展 | 第10-13页 |
1.2.1 调剖剂简介 | 第10-11页 |
1.2.2 调剖堵水技术进展 | 第11-12页 |
1.2.3 复合调剖剂的应用 | 第12-13页 |
1.3 复合颗粒制备方法及机理介绍 | 第13-18页 |
1.3.1 复合颗粒制备方法介绍 | 第13-16页 |
1.3.2 偶联剂在制备中作用机理 | 第16-18页 |
1.4 纳米二氧化硅的制备方法 | 第18-19页 |
1.5 课题研究内容 | 第19-21页 |
第2章 聚合物的合成及表征方法 | 第21-28页 |
2.1 实验仪器及药品 | 第21页 |
2.2 试验过程 | 第21-25页 |
2.3 产物表征方法 | 第25-28页 |
2.3.1 傅立叶变换红外光谱分析(FT-IR) | 第25页 |
2.3.2 X-射线粉末衍射仪(X-ray-diffraction) | 第25-26页 |
2.3.3 热重-差热分析法(TG-DTA) | 第26页 |
2.3.4 扫面电镜分析(SEM) | 第26页 |
2.3.5 能谱分析(EDS) | 第26页 |
2.3.6 透射电镜分析(TEM) | 第26-27页 |
2.3.7 力学性能测试 | 第27页 |
2.3.8 表观粘度测定 | 第27-28页 |
第3章 二氧化硅的制备及改性 | 第28-40页 |
3.1 二氧化硅的制备 | 第28-34页 |
3.1.1 溶胶凝胶法制备二氧化硅 | 第28页 |
3.1.2 氨水用量对二氧化硅颗粒的影响 | 第28-30页 |
3.1.3 温度对二氧化硅颗粒影响 | 第30-32页 |
3.1.4 正硅酸乙酯浓度对二氧化硅颗粒的影响 | 第32-33页 |
3.1.5 二氧化硅的红外分析 | 第33-34页 |
3.2 硅烷偶联剂对二氧化硅表面改性 | 第34-39页 |
3.2.1 pH 值对偶联剂水解过程的影响 | 第34-35页 |
3.2.2 硅烷偶联剂的能谱分析 | 第35-36页 |
3.2.3 二氧化硅改性前后能谱分析图 | 第36-37页 |
3.2.4 硅烷偶联剂改性 SiO2红外分析 | 第37-38页 |
3.2.5 硅烷偶联剂改性 SiO2的 XRD 分析 | 第38页 |
3.2.6 硅烷偶联剂改性 SiO2扫描电镜分析 | 第38-39页 |
3.3 本章小结 | 第39-40页 |
第4章 AM-EHA 共聚物/SiO2制备和调剖性能研究 | 第40-63页 |
4.1 PAM/SiO2复合物的合成与表征 | 第40-46页 |
4.1.1 分散聚合法合成 PAM | 第40-41页 |
4.1.2 PAM/SiO2复合物红外分析 | 第41-42页 |
4.1.3 PAM/SiO2复合物扫描电镜分析及元素分析 | 第42-43页 |
4.1.4 PAM/SiO2复合物透射电镜分析 | 第43-44页 |
4.1.5 PAM/SiO2复合物热重分析 | 第44-46页 |
4.2 EHA 聚合物/SiO2复合物的合成与表征 | 第46-51页 |
4.2.1 EHA 聚合物/SiO2复合物红外分析 | 第46-47页 |
4.2.2 EHA 聚合物/SiO2复合物扫描电镜分析及元素分析 | 第47-48页 |
4.2.3 EHA 聚合物/SiO2复合物透射电镜分析 | 第48页 |
4.2.4 EHA 聚合物/SiO2复合物热重分析 | 第48-51页 |
4.3 AM-EHA 共聚物/SiO2的合成表征及性能评价 | 第51-62页 |
4.3.1 AM-EHA 共聚物/SiO2复合物红外分析 | 第51页 |
4.3.2 AM-EHA 共聚物/SiO2复合物扫描电镜分析及元素分析 | 第51-52页 |
4.3.3 分散剂用量 AM-EHA 共聚物/SiO2复合物透射电镜分析 | 第52-54页 |
4.3.4 AM-EHA 共聚物/SiO2复合物的力学性能 | 第54-57页 |
4.3.5 AM-EHA 共聚物/SiO2复合物热重分析 | 第57-59页 |
4.3.6 AM-EHA 共聚物/SiO2复合物表观粘度 | 第59-62页 |
4.4 本章小结 | 第62-63页 |
结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第68-70页 |
致谢 | 第70页 |