| 致谢 | 第5-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 1 引言 | 第11-22页 |
| 1.1 金属氧化物半导体光催化剂 | 第11-14页 |
| 1.2 纳米TiO_2制备方法总结 | 第14-15页 |
| 1.3 TiO_2光催化技术的应用领域 | 第15-17页 |
| 1.3.1 TiO_2光催化技术在抗菌自洁材料中的应用 | 第15页 |
| 1.3.2 TiO_2光催化技术在耐沾污建筑外墙涂料中的应用 | 第15页 |
| 1.3.3 TiO_2光催化技术在水净化中的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.4 TiO_2光催化技术在沥青路面中的应用 | 第16页 |
| 1.3.5 TiO_2光催化技术在处理难降解污染物中的应用 | 第16-17页 |
| 1.4 TiO_2光催化活性改进方法总结 | 第17-20页 |
| 1.4.1 金属离子掺杂 | 第17-18页 |
| 1.4.2 非金属离子掺杂 | 第18-19页 |
| 1.4.3 半导体复合 | 第19页 |
| 1.4.4 多重离子掺杂 | 第19页 |
| 1.4.5 贵金属沉积 | 第19页 |
| 1.4.6 复杂结构设计 | 第19-20页 |
| 1.5 TiO_2光催化技术广泛应用存在的主要问题 | 第20页 |
| 1.6 本论文的研究重点和创新之处 | 第20-22页 |
| 2 纳米TiO_2的制备表征 | 第22-27页 |
| 2.1 实验材料及方法 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验材料及设备 | 第22-23页 |
| 2.1.2 实验方法 | 第23页 |
| 2.2 样品表征与分析 | 第23-27页 |
| 2.2.1 主要实验原料化学计量比的计算 | 第23-25页 |
| 2.2.2 抑制剂对于产物的影响 | 第25-27页 |
| 3 介孔纳米TiO_2的制备表征 | 第27-33页 |
| 3.1 实验材料及方法 | 第27-29页 |
| 3.1.1 实验材料及设备 | 第27-28页 |
| 3.1.2 实验方法 | 第28-29页 |
| 3.2 样品表征与分析 | 第29-33页 |
| 3.2.1 模板剂对于介孔结构的影响 | 第29-33页 |
| 4 Cu离子掺杂介孔纳米TiO_2的制备表征 | 第33-38页 |
| 4.1 实验材料及方法 | 第33-35页 |
| 4.1.1 实验材料及设备 | 第33-34页 |
| 4.1.2 实验方法 | 第34-35页 |
| 4.2 样品表征与分析 | 第35-38页 |
| 4.2.1 Cu离子在TiO_2晶格中的存在形式 | 第35-37页 |
| 4.2.2 Cu离子的加入对TiO_2光学性能的影响 | 第37-38页 |
| 5 N离子掺杂介孔纳米TiO_2的制备表征 | 第38-43页 |
| 5.1 实验材料及方法 | 第38-40页 |
| 5.1.1 实验材料及设备 | 第38-39页 |
| 5.1.2 实验方法 | 第39-40页 |
| 5.2 样品表征与分析 | 第40-43页 |
| 5.2.1 N离子在TiO_2晶格中的存在形式 | 第40-42页 |
| 5.2.2 N离子的加入对TiO_2光学性能的影响 | 第42-43页 |
| 6 TiO_2光催化降解与自洁涂层设计实验 | 第43-47页 |
| 6.1 TiO_2光催化降解甲基橙实验 | 第43-45页 |
| 6.1.1 实验材料及方法 | 第43-44页 |
| 6.1.2 光催化活性曲线分析及讨论 | 第44-45页 |
| 6.2 基于硅溶胶为成膜物质的TiO_2光催化自洁涂层设计实验 | 第45-47页 |
| 6.2.1 实验材料及方法 | 第45-46页 |
| 6.2.2 涂层自洁效果分析及讨论 | 第46-47页 |
| 7 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 作者简历 | 第52-54页 |
| 学位论文数据集 | 第54页 |
