| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 紫外探测器简介 | 第11-14页 |
| 1.1.1 紫外探测器的原理 | 第11-12页 |
| 1.1.2 紫外探测器的类型 | 第12页 |
| 1.1.3 紫外探测器的结构 | 第12-14页 |
| 1.2 紫外探测器发展现状 | 第14-16页 |
| 1.2.1 发展历程 | 第14-15页 |
| 1.2.2 国内外进展 | 第15-16页 |
| 1.3 紫外探测器性能参数 | 第16-17页 |
| 1.4 优化探测器性能途径 | 第17-20页 |
| 1.5 本论文的主要工作 | 第20-21页 |
| 第二章 表面 NH_4~+修饰对 TiO_2紫外探测器性能影响的研究 | 第21-35页 |
| 2.1 实验过程 | 第21-28页 |
| 2.1.1 试剂与仪器 | 第21-22页 |
| 2.1.2 TiO_2、NH_4~+修饰 TiO_2薄膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.1.3 TiO_2、NH_4~+修饰 TiO_2薄膜的表征 | 第23-25页 |
| 2.1.4 基于 TiO_2、NH_4~+修饰 TiO_2薄膜的紫外探测器的制备 | 第25-28页 |
| 2.2 机理分析 | 第28-29页 |
| 2.3 基于 TiO_2、NH_4~+修饰 TiO_2薄膜紫外探测器的性能测试 | 第29-33页 |
| 2.3.1 I-V 特性测试 | 第29-31页 |
| 2.3.2 光谱响应特性测试 | 第31-32页 |
| 2.3.3 响应时间测试 | 第32-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 Au/TiO_2/Pt 掺杂 TiO_2/Au 高响应紫外探测器的研制 | 第35-45页 |
| 3.1 TiO_2、Pt 掺杂 TiO_2、TiO_2/Pt 掺杂 TiO_2薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.1.1 TiO_2、Pt 掺杂 TiO_2溶胶的制备 | 第35页 |
| 3.1.2 TiO_2、Pt 掺杂 TiO_2薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.1.3 TiO_2/Pt 掺杂 TiO_2薄膜的制备 | 第36页 |
| 3.2 TiO_2、Pt 掺杂 TiO_2、TiO_2/Pt 掺杂 TiO_2薄膜的表征 | 第36-39页 |
| 3.2.1 X 射线衍射分析 | 第36-37页 |
| 3.2.2 X 射线光电子能谱分析 | 第37-38页 |
| 3.2.3 紫外-可见吸收光谱分析 | 第38-39页 |
| 3.2.4 扫描电子显微镜分析 | 第39页 |
| 3.3 器件性能测试 | 第39-43页 |
| 3.3.1 TiO_2、Pt 掺杂 TiO_2、TiO_2/Pt 掺杂 TiO_2薄膜的器件制备 | 第39-40页 |
| 3.3.2 机理分析 | 第40-41页 |
| 3.3.3 器件性能对比 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 FTO、ITO 对 TiO_2纳米线形貌及器件性能的影响 | 第45-54页 |
| 4.1 基于 FTO、ITO 衬底的 TiO_2纳米线阵列的制备 | 第45-47页 |
| 4.1.1 试剂与仪器 | 第45-46页 |
| 4.1.2 实验过程 | 第46-47页 |
| 4.2 基于 FTO、ITO 衬底的 TiO_2纳米线阵列的表征 | 第47-50页 |
| 4.2.1 X 射线衍射分析 | 第47-48页 |
| 4.2.2 扫描电子显微镜分析 | 第48-49页 |
| 4.2.3 紫外-可见吸收光谱分析 | 第49-50页 |
| 4.3 基于 FTO、ITO 衬底的 TiO_2纳米线阵列紫外探测器的制作 | 第50-53页 |
| 4.3.1 器件制作 | 第50页 |
| 4.3.2 性能对比 | 第50-52页 |
| 4.3.3 FTO、ITO 衬底对器件性能影响的分析 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 全文总结 | 第54-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 作者简介及科研成果 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
