氯化物溶液喷雾焙烧监控系统的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 喷雾焙烧简述 | 第11-15页 |
| 1.1.1 喷雾焙烧简介 | 第11-12页 |
| 1.1.2 喷雾焙烧原理及特点 | 第12-13页 |
| 1.1.3 喷雾焙烧的应用 | 第13-15页 |
| 1.2 冶金过程的监控 | 第15-20页 |
| 1.2.1 监控系统简介 | 第15-17页 |
| 1.2.2 工业监控系统信号处理 | 第17-18页 |
| 1.2.3 监控系统在冶金过程中的应用 | 第18-20页 |
| 1.3 氯化铈喷雾焙烧制备氧化铈 | 第20-23页 |
| 1.3.1 铈简介及我国氧化铈产业的发展 | 第20-21页 |
| 1.3.2 氧化铈粉体的应用 | 第21-22页 |
| 1.3.3 氧化铈粉体的生产方法 | 第22-23页 |
| 1.3.4 现有氧化铈粉体制备方法主要存在的问题 | 第23页 |
| 1.4 研究意义 | 第23-24页 |
| 1.5 研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 实验研究方法 | 第25-33页 |
| 2.1 实验装置 | 第25-28页 |
| 2.2 监控元件及数据采集点 | 第28-29页 |
| 2.3 监控系统建立方法 | 第29-30页 |
| 2.4 实验原料 | 第30页 |
| 2.5 试验方法 | 第30页 |
| 2.6 化学分析方法 | 第30-31页 |
| 2.6.1 化学分析所用试剂 | 第30-31页 |
| 2.6.2 硫酸亚铁铵容量法测定氧化铈转化率 | 第31页 |
| 2.7 仪器分析方法 | 第31-32页 |
| 2.7.1 X-射线衍射分析 | 第31-32页 |
| 2.7.2 扫描电镜(SEM)分析 | 第32页 |
| 2.8 热力学分析 | 第32-33页 |
| 第3章 氯化物溶液喷雾焙烧监控系统的建立 | 第33-64页 |
| 3.1 PCI数据采集卡的选择及安装 | 第33-34页 |
| 3.2 测控系统结构 | 第34-38页 |
| 3.3 温度采集及控制系统的研究 | 第38-42页 |
| 3.3.1 数据采集与数学模型 | 第38-40页 |
| 3.3.2 实验验证 | 第40页 |
| 3.3.3 温度采集及控制系统的建立 | 第40-42页 |
| 3.4 压力采集系统的建立 | 第42-46页 |
| 3.4.1 数据采集与数学模型 | 第43-44页 |
| 3.4.2 实验验证 | 第44页 |
| 3.4.3 压力采集及控制系统的建立 | 第44-46页 |
| 3.5 流量监控系统的研究 | 第46-51页 |
| 3.5.1 液体流量控制 | 第46-49页 |
| 3.5.2 气体流量控制 | 第49-50页 |
| 3.5.3 显示系统与操作界面 | 第50-51页 |
| 3.6 其他附属设备的控制 | 第51-53页 |
| 3.7 操作界面 | 第53-62页 |
| 3.7.1 监控主体界面 | 第53-55页 |
| 3.7.2 流程监测界面 | 第55-57页 |
| 3.7.3 条件设置界面 | 第57-59页 |
| 3.7.4 数据显示界面 | 第59-60页 |
| 3.7.5 工作日志界面 | 第60-62页 |
| 3.8 本章小结 | 第62-64页 |
| 第4章 氯化铈溶液喷雾焙烧制备氧化铈 | 第64-78页 |
| 4.1 氯化铈喷雾制备氧化铈热力学研究 | 第64-65页 |
| 4.2 不同工艺参数对粉体产物的影响及分析 | 第65-72页 |
| 4.2.1 喷雾焙烧温度的影响 | 第65-69页 |
| 4.2.2 氯化铈溶液浓度的影响 | 第69-72页 |
| 4.3 监控系统采集数据及分析 | 第72-78页 |
| 第5章 结论 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
