| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-22页 |
| 1.1 磁性的起源及分类 | 第12-13页 |
| 1.2 软磁材料的发展及种类 | 第13-15页 |
| 1.2.1 软磁材料的发展历程 | 第13-14页 |
| 1.2.2 软磁材料的种类 | 第14-15页 |
| 1.3 FeCo基软磁薄膜的研究现状 | 第15-20页 |
| 1.3.1 FeCo-I系列软磁合金薄膜 | 第16-18页 |
| 1.3.2 Fe-X-N系列软磁合金薄膜 | 第18-19页 |
| 1.3.3 FeCo-X-N系列软磁合金薄膜 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 理论基础 | 第22-29页 |
| 2.1 磁性材料的磁化 | 第22-23页 |
| 2.1.1 磁化曲线 | 第22页 |
| 2.1.2 磁滞回线 | 第22-23页 |
| 2.2 薄膜的应力 | 第23-24页 |
| 2.3 磁畴 | 第24-25页 |
| 2.3.1 磁畴的成因 | 第24-25页 |
| 2.3.2 畴壁 | 第25页 |
| 2.4 矫顽力的晶粒尺寸效应 | 第25-27页 |
| 2.5 衡量软磁材料的重要指标 | 第27-29页 |
| 2.5.1 起始磁导率 | 第27页 |
| 2.5.2 矫顽力H_c | 第27-28页 |
| 2.5.3 饱和磁感应强度M_s | 第28页 |
| 2.5.4 稳定性 | 第28页 |
| 2.5.5 高电阻率p | 第28-29页 |
| 第三章 薄膜的制备及测试方法 | 第29-42页 |
| 3.1 薄膜的制备 | 第29-34页 |
| 3.1.1 薄膜的制备方法 | 第29-31页 |
| 3.1.2 磁控溅射的基本原理 | 第31-32页 |
| 3.1.3 薄膜的生长过程 | 第32-33页 |
| 3.1.4 基片的选取与清洗 | 第33-34页 |
| 3.1.5 实验材料 | 第34页 |
| 3.2 薄膜性能的测试方法 | 第34-42页 |
| 3.2.1 振动样品磁强计(VSM) | 第34-36页 |
| 3.2.2 X射线衍射(XRD) | 第36-37页 |
| 3.2.3 薄膜电阻率的测定 | 第37-38页 |
| 3.2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第38-39页 |
| 3.2.5 原子力显微镜(AFM) | 第39-42页 |
| 第四章 FeCoZrN薄膜的结构及性能的表征 | 第42-70页 |
| 4.1 样品制备的基本条件 | 第43-45页 |
| 4.1.1 基本溅射条件 | 第43-44页 |
| 4.1.2 EDS能谱分析 | 第44-45页 |
| 4.2 N含量对(Fe_(65)Co_(35))ZrN薄膜结构和性能的影响 | 第45-51页 |
| 4.2.1 实验条件 | 第46页 |
| 4.2.2 N含量对薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.3 N含量对薄膜磁性能的影响 | 第47-50页 |
| 4.2.4 N含量对薄膜电阻率的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 Zr含量对(Fe_(65)Co_(35))ZrN薄膜结构和性能的影响 | 第51-55页 |
| 4.3.1 实验条件 | 第51-52页 |
| 4.3.2 Zr含量对薄膜结构的影响 | 第52-53页 |
| 4.3.3 Zr元素的含量对薄膜磁性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.4 Zr含量对薄膜电阻率的影响 | 第54-55页 |
| 4.4 厚度对(Fe_(65)Co_(35)ZrN薄膜结构和性能的影响 | 第55-62页 |
| 4.4.1 实验条件 | 第56页 |
| 4.4.2 不同膜厚对薄膜结构的影响 | 第56-57页 |
| 4.4.3 不同膜厚对薄膜磁性能的影响 | 第57-60页 |
| 4.4.4 薄膜表面形貌的分析 | 第60-61页 |
| 4.4.5 不同膜厚对薄膜电阻率的影响 | 第61-62页 |
| 4.5 衬底温度对(Fe_(65)Co_(35))ZrN薄膜结构和性能的影响 | 第62-70页 |
| 4.5.1 实验条件 | 第63页 |
| 4.5.2 衬底温度对薄膜结构的影响 | 第63-64页 |
| 4.5.3 薄膜的AFM分析 | 第64-65页 |
| 4.5.4 衬底温度对薄膜磁性能的影响 | 第65-68页 |
| 4.5.5 衬底温度对薄膜电阻率的影响 | 第68-70页 |
| 第五章 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
