| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 深过冷熔体中的枝晶生长 | 第11-16页 |
| 1.1.1 液态金属的深过冷 | 第11-12页 |
| 1.1.2 枝晶生长理论的发展 | 第12-15页 |
| 1.1.3 枝晶生长的实验研究 | 第15-16页 |
| 1.2 熔体流动对枝晶生长的作用 | 第16-20页 |
| 1.2.1 熔体流动的分类 | 第17-18页 |
| 1.2.2 对流对枝晶生长的影响 | 第18-20页 |
| 1.3 静磁场在材料科学中的应用 | 第20-24页 |
| 1.3.1 磁场下材料的热处理 | 第20页 |
| 1.3.2 磁场取向作用的研究 | 第20-21页 |
| 1.3.3 静磁场控制对流的研究 | 第21-24页 |
| 1.4 选题依据和研究内容 | 第24-27页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第24-25页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 实验方案 | 第27-37页 |
| 2.1 实验材料 | 第27页 |
| 2.2 实验方法 | 第27-32页 |
| 2.2.1 静磁场下的深过冷实验 | 第27-28页 |
| 2.2.2 温度测量及校准 | 第28-29页 |
| 2.2.3 枝晶生长速率的实验测定 | 第29-31页 |
| 2.2.4 控制熔体中对流的方法 | 第31-32页 |
| 2.3 实验设备 | 第32-35页 |
| 2.3.1 真空非自耗电弧炉熔炼装置 | 第32-33页 |
| 2.3.2 静磁场下深过冷实验装置 | 第33-35页 |
| 2.4 技术路线 | 第35-37页 |
| 第三章 静磁场对纯Ni熔体中枝晶生长动力学的影响 | 第37-49页 |
| 3.1 冷却曲线分析 | 第37-38页 |
| 3.2 宏观固/液界面特征观察 | 第38-41页 |
| 3.2.1 不同过冷度下纯Ni固/液界面特征分析 | 第38-39页 |
| 3.2.2 不同静磁场中纯Ni固/液界面特征分析 | 第39-41页 |
| 3.3 枝晶生长速率测定及理论分析 | 第41-45页 |
| 3.3.1 枝晶生长速率测定 | 第41页 |
| 3.3.2 枝晶生长理论分析 | 第41-45页 |
| 3.4 讨论 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 静磁场对Ni_3Sn_2熔体中枝晶生长动力学的影响 | 第49-61页 |
| 4.1 冷却曲线分析 | 第49-50页 |
| 4.2 宏观固/液界面特征观察 | 第50-51页 |
| 4.2.1 不同过冷度下Ni_3Sn_2固/液界面特征分析 | 第50-51页 |
| 4.2.2 不同静磁场中Ni_3Sn_2固腋界面特征分析 | 第51页 |
| 4.3 枝晶生长速率测定及理论分析 | 第51-58页 |
| 4.3.1 枝晶生长速率测定 | 第51-54页 |
| 4.3.2 枝晶生长理论分析 | 第54-58页 |
| 4.4 讨论 | 第58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
