| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-34页 |
| 1.1 螺旋概述 | 第13-15页 |
| 1.1.1 天然螺旋 | 第13-14页 |
| 1.1.2 人工螺旋 | 第14-15页 |
| 1.2 螺旋聚异氰 | 第15-29页 |
| 1.2.1 螺旋聚异氰简介 | 第16-18页 |
| 1.2.2 异氰的聚合 | 第18-20页 |
| 1.2.3 聚异氰的二级结构 | 第20-25页 |
| 1.2.4 聚异氰的功能化和智能化 | 第25-29页 |
| 1.5 温度敏感型聚合物 | 第29-33页 |
| 1.5.1 温敏聚合物简介 | 第29-31页 |
| 1.5.2 烷氧醚温敏聚合物 | 第31-33页 |
| 1.6 本论文的研究目标和方案 | 第33-34页 |
| 第二章 实验部分 | 第34-64页 |
| 2.1 前言 | 第34页 |
| 2.2 实验部分 | 第34-36页 |
| 2.2.1 原料与试剂 | 第34-36页 |
| 2.2.2 溶剂处理 | 第36页 |
| 2.3 仪器与测试 | 第36-38页 |
| 2.4 侧链为赖氨酸和烷氧醚的聚异氰合成 | 第38-44页 |
| 2.4.1 PK(Et-TEG)的合成 | 第38-41页 |
| 2.4.2 PKK(Et-TEG)2的合成 | 第41-44页 |
| 2.5 侧链为烷氧醚和谷氨酸的聚异氰合成 | 第44-54页 |
| 2.5.1 PE(Et-TEG)的合成 | 第44-48页 |
| 2.5.2 PEE(Et-TEG)2的合成 | 第48-51页 |
| 2.5.3 PE(Et-TEG)2 的合成 | 第51-54页 |
| 2.6 侧链为烷氧醚，丙氨酸和谷氨酸修饰的聚异氰合成 | 第54-64页 |
| 2.6.1 PAE(Et-TEG)2的合成 | 第54-57页 |
| 2.6.2 PAE(Me-TEG)2的合成 | 第57-60页 |
| 2.6.3 PAE(Me-DEG)2的合成 | 第60-64页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第64-84页 |
| 3.1 聚异氰的设计与合成 | 第64-72页 |
| 3.1.1 聚异氰的结构设计 | 第64-65页 |
| 3.1.2 聚异氰的合成 | 第65-70页 |
| 3.1.2.1 侧链为烷氧醚和赖氨酸修饰的异氰合成 | 第66-67页 |
| 3.1.2.2 侧链为烷氧醚和谷氨酸修饰的异氰合成 | 第67-69页 |
| 3.1.2.3 侧链为烷氧醚，丙氨酸和谷氨酸修饰的异氰合成 | 第69-70页 |
| 3.1.2.4 异氰单体的聚合 | 第70页 |
| 3.1.3 聚异氰的分子量表征 | 第70-72页 |
| 3.2 聚异氰的光学活性研究 | 第72-75页 |
| 3.2.1 聚合条件对聚异氰光学活性的影响 | 第72-73页 |
| 3.2.2 分子量对聚异氰光学活性的影响 | 第73-74页 |
| 3.2.3 单体化学结构对聚异氰光学活性的影响 | 第74-75页 |
| 3.3 聚异氰的温敏行为研究 | 第75-84页 |
| 3.3.1 在微观水平上研究聚异氰的温敏行为 | 第76-77页 |
| 3.3.2 在宏观水平上研究聚异氰的温敏行为 | 第77-82页 |
| 3.3.3 温敏行为对二级结构的影响 | 第82页 |
| 3.3.4 聚异氰的温敏诱导的聚集行为 | 第82-84页 |
| 第四章 结论与展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-95页 |
| 附图 | 第95-119页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第119-120页 |
| 作者在攻读硕士学位期间所参与的项目 | 第120-121页 |
| 致谢 | 第121页 |
