| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 光学薄膜的应用与发展 | 第10-11页 |
| 1.2 原子层沉积技术简介 | 第11-13页 |
| 1.3 原子层沉积复形性应用 | 第13-17页 |
| 1.4 本文的研究内容与创新点 | 第17-19页 |
| 第二章 原子层沉积原理与系统介绍 | 第19-31页 |
| 2.1 原子层沉积原理 | 第19-21页 |
| 2.2 原子层沉积的表面化学 | 第21-28页 |
| 2.2.1 原子层沉积吸附动力学 | 第21-24页 |
| 2.2.2 原子层沉积生长模式 | 第24-25页 |
| 2.2.3 影响原子层沉积的因素 | 第25-28页 |
| 2.3 原子层沉积系统 | 第28-31页 |
| 第三章 ALD制备Al_2O_3、TiO_2和Ir单层薄膜的光学特性 | 第31-48页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 薄膜制备 | 第32-34页 |
| 3.3 单层膜光学特性 | 第34-47页 |
| 3.3.1 Al_2O_3 | 第34-38页 |
| 3.3.2 TiO_2 | 第38-44页 |
| 3.3.3 Ir | 第44-47页 |
| 3.4 小结 | 第47-48页 |
| 第四章 复杂形貌表面光学薄膜制备 | 第48-61页 |
| 4.1 减反膜制备 | 第48-53页 |
| 4.1.1 平面基板减反膜制备 | 第48-49页 |
| 4.1.2 双面减反膜制备 | 第49-51页 |
| 4.1.3 半球透镜减反膜制备 | 第51-53页 |
| 4.2 圆筒形X射线反射镜制备 | 第53-55页 |
| 4.3 微结构颜色滤光片制备 | 第55-60页 |
| 4.4 小结 | 第60-61页 |
| 第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 作者简介 | 第69页 |