| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究背景以及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 喷墨直写工艺发展以及应用 | 第12-13页 |
| 1.2.1 喷墨直写工艺的发展 | 第12页 |
| 1.2.2 喷墨直写工艺的应用 | 第12-13页 |
| 1.3 研究现状 | 第13-14页 |
| 1.4 论文的的主要工作与内容安排 | 第14-17页 |
| 第2章 喷墨直写工艺 | 第17-32页 |
| 2.1 喷墨直写工艺的分类 | 第17-25页 |
| 2.1.1 连续型喷墨直写工艺 | 第19-20页 |
| 2.1.2 按需型喷墨直写工艺 | 第20-25页 |
| 2.2 喷墨直写工艺过程 | 第25-28页 |
| 2.2.1 液滴喷出和液滴飞行 | 第26-27页 |
| 2.2.2 液滴撞击和铺展 | 第27页 |
| 2.2.3 液滴的凝固和退火 | 第27-28页 |
| 2.3 典型图案化工艺 | 第28-32页 |
| 2.3.1 光刻技术 | 第28-29页 |
| 2.3.2 微接触印刷技术 | 第29-30页 |
| 2.3.3 丝网印刷技术 | 第30页 |
| 2.3.4 典型图案化工艺对比 | 第30-32页 |
| 第3章 喷墨直写功能性常见材料及其临界参数 | 第32-37页 |
| 3.1 可喷墨直写功能性“墨水”的性能要求及临界参数 | 第32-33页 |
| 3.1.1 可喷墨直写“墨水”的性能要求 | 第32-33页 |
| 3.1.2 可喷墨直写“墨水”的临界参数 | 第33页 |
| 3.2 常见可喷墨直写材料 | 第33-37页 |
| 3.2.1 无机材料 | 第34-35页 |
| 3.2.2 有机材料 | 第35-37页 |
| 第4章 可喷墨直写ZnO紫外线传感器的制作分析 | 第37-48页 |
| 4.1 可喷墨直写“墨水”与喷墨直写系统的分析 | 第37-42页 |
| 4.1.1 可喷墨直写“墨水”的分析 | 第37-41页 |
| 4.1.2 喷墨直写系统的分析 | 第41页 |
| 4.1.3 可喷墨直写ZnO“墨水”的制备 | 第41-42页 |
| 4.2 紫外线传感器衬底的分析 | 第42-44页 |
| 4.2.1 纸的特性 | 第42-43页 |
| 4.2.2 纸作为衬底的可行性 | 第43-44页 |
| 4.2.3 走纸方式对喷墨直写工艺的影响 | 第44页 |
| 4.3 紫外线传感器电极分析 | 第44-46页 |
| 4.3.1 低成本石墨电极的电阻率 | 第45-46页 |
| 4.3.2 低成本石墨电极的IV曲线 | 第46页 |
| 4.4 ZnO紫外线传感器的制作方案 | 第46-48页 |
| 第5章 可喷墨直写ZnO紫外线传感器的制作与表征 | 第48-62页 |
| 5.1 ZnO紫外线传感器的制作和实验 | 第48-50页 |
| 5.1.1 制作过程 | 第48-49页 |
| 5.1.2 实验 | 第49-50页 |
| 5.2 形貌表征 | 第50-52页 |
| 5.2.1 光学显微镜形貌表征 | 第50-51页 |
| 5.2.2 SEM形貌表征 | 第51-52页 |
| 5.3 喷墨直写工艺的各参数对ZnO薄膜电阻的影响 | 第52-56页 |
| 5.3.1 ZnO薄膜电阻测试方法 | 第52-53页 |
| 5.3.2 ZnO薄膜电阻和喷墨直写次数的关系 | 第53-54页 |
| 5.3.3 ZnO薄膜电阻与其长度、宽度的关系 | 第54-56页 |
| 5.3.4 薄膜电阻与退火温度的关系 | 第56页 |
| 5.4 ZnO紫外线传感器的光敏特性 | 第56-59页 |
| 5.4.1 紫外线传感器I-V光敏反应 | 第56-57页 |
| 5.4.2 脉冲紫外光下紫外线传感器随时间变化的光敏反应 | 第57-58页 |
| 5.4.3 有ZnO和没有ZnO的紫外线传感器的I-V光敏反应 | 第58-59页 |
| 5.4.4 紫外线传感器在不同强度下的紫外线的光敏反应 | 第59页 |
| 5.5 ZnO紫外线传感器的工作原理 | 第59-60页 |
| 5.6 结果讨论 | 第60-62页 |
| 第6章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
