| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第7-14页 |
| 1.1 侧面磨抛的背景和意义 | 第7-9页 |
| 1.2 光纤偏振器国内外研究及发展现状 | 第9-11页 |
| 1.3 几种典型的光纤偏振器的介绍 | 第11-13页 |
| 1.3.1 利用双折射晶片的光纤偏振器 | 第11-12页 |
| 1.3.2 利用缠绕高双折射光纤的光纤偏振器 | 第12-13页 |
| 1.4 研究目的和意义 | 第13页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第13页 |
| 1.4.2 研究意义 | 第13页 |
| 1.5 论文主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第2章 表面等离子体谐振技术的基本原理 | 第14-25页 |
| 2.1 光纤中的倏逝场分布 | 第14-17页 |
| 2.1.1 倏逝场的产生 | 第14-16页 |
| 2.1.2 光纤中的倏逝场 | 第16-17页 |
| 2.2 表面等离子体谐振 | 第17-24页 |
| 2.2.1 表面等离子体谐振条件 | 第17-18页 |
| 2.2.2 SPR角度的模拟分析 | 第18-24页 |
| 2.3 SPR技术在各领域的应用 | 第24-25页 |
| 2.3.1 SPR技术在生物分子领域中的应用 | 第24页 |
| 2.3.2 SPR技术在遗传领域中的应用 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25页 |
| 第3章 D型光纤的理论分析 | 第25-43页 |
| 3.1 均匀折射率光纤的光线理论 | 第25-29页 |
| 3.1.1 子午光线的传播 | 第25-27页 |
| 3.1.2 斜光线的传播 | 第27-29页 |
| 3.2 光在平面波导中的传播 | 第29-34页 |
| 3.2.1 光的电磁波理论 | 第29-31页 |
| 3.2.2 平板波导的电磁场 | 第31-34页 |
| 3.3 D型光纤中光的传输 | 第34-41页 |
| 3.3.1 comsol软件介绍及对光纤能量分布的模拟 | 第34-39页 |
| 3.3.2 D型光纤传输特性的影响因素 | 第39-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 D型光纤偏振器的实验测试及数据分析 | 第43-73页 |
| 4.1 D型光纤偏振器的原理及制作工艺 | 第43-46页 |
| 4.1.1 D型光纤偏振器的制作原理 | 第43-44页 |
| 4.1.2 D型光纤的制作工艺流程 | 第44-46页 |
| 4.2 D型光纤镀膜的工艺流程 | 第46-47页 |
| 4.3 D型光纤偏振器的实验测试仪器 | 第47-48页 |
| 4.4 D型光纤镀金属和金属复合膜层的模拟实验测试 | 第48-69页 |
| 4.4.1 Au膜时不同工作波长情况下的膜厚选择 | 第48-50页 |
| 4.4.2 Cu膜时不同工作波长情况下的膜厚选择 | 第50-53页 |
| 4.4.3 Au+TiO_2复合膜时不同工作波长情况下的膜厚选择 | 第53-61页 |
| 4.4.4 Cu+TiO_2复合膜时不同工作波长情况下的膜厚选择 | 第61-69页 |
| 4.5 实验数据分析 | 第69-71页 |
| 4.6 本章小结 | 第71-73页 |
| 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第80-81页 |
