摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-24页 |
1.1 研究背景与意义 | 第11-12页 |
1.2 刀具涂层的分类 | 第12-14页 |
1.2.1 简单二元涂层 | 第12页 |
1.2.2 多元固溶涂层 | 第12-13页 |
1.2.3 纳米结构涂层 | 第13-14页 |
1.3 涂层的制备方法 | 第14-20页 |
1.3.1 化学气相沉积技术 | 第14-15页 |
1.3.2 物理气相沉积技术 | 第15-20页 |
1.4 Cr-Si-N系纳米复合涂层的研究进展 | 第20-22页 |
1.5 本论文的研究目标及内容 | 第22-24页 |
第二章 实验内容及研究方法 | 第24-32页 |
2.1 研究思路 | 第24页 |
2.2 实验设备 | 第24-26页 |
2.3 涂层沉积工艺 | 第26-28页 |
2.3.1 涂层沉积基本工艺流程 | 第26-28页 |
2.4 涂层的组织结构分析 | 第28-29页 |
2.4.1 涂层的成分(EPMA) | 第28页 |
2.4.2 涂层的物相检测(XRD) | 第28页 |
2.4.3 涂层组成元素的化学状态(XPS) | 第28-29页 |
2.4.4 涂层的表面与截面形貌(SEM) | 第29页 |
2.4.5 涂层的高倍图像和晶面排列信息(TEM) | 第29页 |
2.5 涂层的机械性能测试 | 第29-30页 |
2.5.1 显微硬度测试 | 第29-30页 |
2.5.2 摩擦磨损性能测试 | 第30页 |
2.6 高温氧化实验 | 第30-32页 |
第三章 多弧离子镀制备Cr-Si-N涂层及其性能研究 | 第32-51页 |
3.1 基体偏压对Cr-Si-N涂层组织结构和机械性能的影响 | 第32-39页 |
3.1.1 涂层沉积参数与工艺 | 第32-33页 |
3.1.2 基体偏压对涂层成分及相结构的影响 | 第33-38页 |
3.1.3 基体偏压对涂层机械性能的影响 | 第38-39页 |
3.2 多弧靶电流对Cr-Si-N涂层结构及其机械性能的影响 | 第39-46页 |
3.2.1 涂层沉积参数与工艺 | 第39-40页 |
3.2.2 多弧靶电流对涂层成分及相结构的影响 | 第40-45页 |
3.2.3 多弧靶电流对涂层机械性能的影响 | 第45-46页 |
3.3 Cr-Si-N涂层的高温抗氧化性研究 | 第46-49页 |
3.3.1 涂层氧化前后XRD表征 | 第46-48页 |
3.3.2 涂层氧化前后SEM表征 | 第48-49页 |
3.4 本章小结 | 第49-51页 |
第四章 多弧离子镀制备Cr-Si-Al-N/Cr-Si-O-N涂层及其性能研究 | 第51-69页 |
4.1.Cr-Si-Al-N涂层制备及其性能研究 | 第51-58页 |
4.1.1 Cr-Si-Al-N涂层沉积参数与工艺 | 第51-52页 |
4.1.2 Cr-Si-Al-N涂层成分及相结构 | 第52-55页 |
4.1.3 Cr-Si-Al-N涂层的机械性能 | 第55-56页 |
4.1.4 Cr-Si-Al-N涂层的高温抗氧化性研究 | 第56-58页 |
4.2 Cr-Si-O-N涂层制备及其机械性能研究 | 第58-67页 |
4.2.1 Cr-Si-O-N涂层沉积参数与工艺 | 第59页 |
4.2.2 Cr-Si-O-N涂层成分及相结构 | 第59-63页 |
4.2.3 Cr-Si-O-N涂层的机械性能 | 第63-64页 |
4.2.4 Cr-Si-O-N涂层的高温抗氧化性研究 | 第64-67页 |
4.3 本章小结 | 第67-69页 |
第五章 多弧离子镀复合中频磁控溅射制备Cr-Si-N涂层及其性能研究 | 第69-79页 |
5.1 磁控Si靶电流对Cr-Si-N结构及其机械性能的影响 | 第69-76页 |
5.1.1 涂层沉积参数与工艺 | 第69-70页 |
5.1.2 磁控Si靶电流对涂层成分及相结构的影响 | 第70-74页 |
5.1.3 磁控Si靶电流对涂层的机械性能的影响 | 第74-76页 |
5.2 涂层的高温抗氧化性研究 | 第76-77页 |
5.2.1 高温氧化实验 | 第76页 |
5.2.2 涂层氧化前后XRD表征 | 第76-77页 |
5.2.3 涂层氧化后SEM表征 | 第77页 |
5.3 本章小结 | 第77-79页 |
结论 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-87页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第87-88页 |
致谢 | 第88-89页 |
附件 | 第89页 |