| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 二氧化钒薄膜的概述 | 第10-14页 |
| 1.2.1 二氧化钒的理化性质 | 第10-12页 |
| 1.2.2 二氧化钒薄膜的应用 | 第12-13页 |
| 1.2.3 二氧化钒薄膜的国内外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 气敏传感器的概述 | 第14-16页 |
| 1.3.1 气敏传感器的定义和分类 | 第14-16页 |
| 1.3.2 半导体型气敏传感器 | 第16页 |
| 1.4 本论文的研究目的和内容 | 第16-18页 |
| 第2章 二氧化钒薄膜理论知识及分析手段 | 第18-32页 |
| 2.1 二氧化钒薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 2.2 二氧化钒薄膜的相变机理及相变参数 | 第20-23页 |
| 2.2.1 二氧化钒薄膜相变机理 | 第20-21页 |
| 2.2.2 相变性能参数 | 第21-23页 |
| 2.3 二氧化钒薄膜的气敏机理及气敏参数 | 第23-25页 |
| 2.3.1 二氧化钒薄膜的气敏机理 | 第23-24页 |
| 2.3.2 气敏性能参数 | 第24-25页 |
| 2.4 实验设备的介绍 | 第25-32页 |
| 2.4.1 磁控溅射镀膜机 | 第25-27页 |
| 2.4.2 快速热处理炉 | 第27-28页 |
| 2.4.3 相变测试系统 | 第28-29页 |
| 2.4.4 气敏测试系统 | 第29-30页 |
| 2.4.5 微观表征与分析手段 | 第30-32页 |
| 第3章 热致相变特性氧化钒薄膜的制备 | 第32-44页 |
| 3.1 氧化钒薄膜的制备 | 第32-35页 |
| 3.1.1 陶瓷片基底的清洗 | 第32-33页 |
| 3.1.2 利用磁控溅射在基底上沉积纯的金属V膜 | 第33页 |
| 3.1.3 利用快速热处理制备氧化钒薄膜 | 第33-35页 |
| 3.2 热处理参数对于薄膜各部分性能的影响 | 第35-43页 |
| 3.2.1 不同热处理参数对于薄膜结晶性的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.2 热处理参数对于薄膜微观形貌的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.3 不同热处理条件下的热致相变性能 | 第38-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 氧化钒薄膜对甲烷气敏性能的初探 | 第44-55页 |
| 4.1 优化薄膜微观形貌提高甲烷气敏性能 | 第44-50页 |
| 4.1.1 VO_x/CuO复合结构的制备 | 第44-45页 |
| 4.1.2 VO_x/CuO复合结构对甲烷气敏性能的研究 | 第45-49页 |
| 4.1.3 优化形貌和结晶性后的甲烷气敏性探究 | 第49-50页 |
| 4.2 贵金属Pt掺杂提高甲烷气敏性能 | 第50-52页 |
| 4.2.1 VO_x/Pt复合结构的制备 | 第50页 |
| 4.2.2 不同热处理温度对VO_x/Pt性能影响 | 第50-52页 |
| 4.3 甲烷的气敏机理 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 第5章 实验总结与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 实验总结 | 第55-56页 |
| 5.2 工作展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |