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双极晶体管电离缺陷演化规律及物理模型研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 绪论第9-20页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第9页
    1.2 低剂量率辐射损伤增强效应研究概况第9-14页
    1.3 电场对电子器件辐射损伤作用研究概况第14-17页
    1.4 预加温处理对电子器件辐射损伤作用研究概况第17-19页
    1.5 本文的主要研究内容第19-20页
第2章 电离缺陷演化研究方法第20-23页
    2.1 试验样品第20页
    2.2 辐照试验第20-21页
    2.3 测试内容与测试仪器第21页
    2.4 物理模型构建方法第21-23页
第3章 双极晶体管辐射损伤第23-42页
    3.1 不同剂量率辐照损伤结果第23-27页
    3.2 电场对辐射损伤的影响第27-31页
    3.3 预加温处理辐射损伤结果第31-34页
    3.4 电场和预加温处理综合作用第34-40页
        3.4.1 预加温处理后电场的影响规律第34-37页
        3.4.2 预加温处理前后剂量率的影响规律第37-40页
    3.5 本章小结第40-42页
第4章 电离缺陷演化物理模型第42-68页
    4.1 电离缺陷演化模型建立和有效性第42-52页
        4.1.1 器件模型建立第42-46页
        4.1.2 器件模型检验第46-52页
    4.2 不同剂量率模型计算结果第52-53页
    4.3 不同电场条件模型计算结果第53-57页
    4.4 不同缺陷状态模型计算结果第57-64页
        4.4.1 缺陷浓度对缺陷演化的影响第57-63页
        4.4.2 俘获心能级对缺陷演化的影响第63-64页
    4.5 多种条件作用下模型结果与辐照试验结果对比第64-67页
    4.6 本章小结第67-68页
结论第68-69页
参考文献第69-74页
致谢第74页

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