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电阻膜片喷涂加工雾化射流场PIV测量及工艺试验研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第1章 绪论第8-16页
    1.1 课题背景及意义第8-10页
    1.2 国内外研究现状第10-14页
        1.2.1 电位计研究现状第10-11页
        1.2.2 雾化理论研究现状第11-13页
        1.2.3 流场测量研究现状第13-14页
    1.3 研究目的和主要内容第14-16页
第2章 电阻膜片喷涂加工原理与数值模拟第16-34页
    2.1 电阻膜片喷涂加工原理第16-18页
    2.2 电阻膜片雾化喷涂加工误差影响因素分析第18-21页
        2.2.1 电阻值误差和非线性误差第18-19页
        2.2.2 雾化喷涂加工误差影响因素第19-21页
    2.3 电阻液雾化射流基本原理及数值模拟第21-33页
        2.3.1 电阻液雾化射流基本原理第21-25页
        2.3.2 气泡雾化喷嘴及雾化特性第25-27页
        2.3.3 电阻液气泡雾化射流数值模拟第27-33页
    2.4 本章小结第33-34页
第3章 电阻液气泡雾化射流场PIV测量实验第34-51页
    3.1 PIV粒子图像测速技术原理第34-36页
    3.2 电阻液气泡雾化射流待测流场第36-40页
        3.2.1 电阻液气泡雾化射流场初始速度估算第37-39页
        3.2.2 电阻液气泡雾化射流气液流量比测量第39-40页
    3.3 电阻液雾化射流PIV测量实验系统第40-47页
        3.3.1 雾化装置与射流成像可见性第40-43页
        3.3.2 PIV测量系统硬件配置第43-47页
    3.4 电阻液气泡雾化射流PIV实验过程第47-49页
    3.5 本章小结第49-51页
第4章 PIV图像处理软件及测量实验结果分析第51-64页
    4.1 PIV图像处理软件系统设计第51-56页
        4.1.1 图像前处理第52页
        4.1.2 图像互相关分析处理第52-55页
        4.1.3 速度矢量修正第55-56页
    4.2 流场图像处理与PIV测量结果分析第56-63页
    4.3 本章小结第63-64页
第5章 电阻膜片喷涂加工的工艺试验第64-71页
    5.1 精密碳膜电位计喷涂加工的工艺试验过程第64-66页
        5.1.1 精密碳膜电位计喷涂装置硬件系统第64-65页
        5.1.2 精密碳膜电位计喷涂装置软件系统第65-66页
    5.2 电阻膜片喷涂加工工艺试验结果及分析第66-70页
    5.3 本章小结第70-71页
结论第71-72页
参考文献第72-76页
硕士学位期间发表的学术论文第76-78页
致谢第78页

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