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动态测试中基于声发射技术的磁头碰撞监测研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
术语检索第7-8页
第一章 绪论第8-18页
    1.1 课题研究的背景及意义第8-11页
        1.1.1 课题的来源第8-9页
        1.1.2 课题研究的意义第9-11页
    1.2 声发射技术研究的现状第11-17页
        1.2.1 世界声发射技术的发展历程和现状第11-12页
        1.2.2 中国声发射技术发展历程第12-13页
        1.2.3 声发射技术应用领域第13-16页
        1.2.4 声发射技术在硬盘磁头测试行业的应用现状第16-17页
    1.3 主要研究内容第17-18页
        1.3.1 研究目标第17页
        1.3.2 主要研究内容第17-18页
第二章 动态测试中磁头碰碟的声发射的特征参数研究第18-31页
    2.1 动态测试声发射系统简介第18-20页
        2.1.1 声发射传感器的设计第18-19页
        2.1.2 前置放大器设计第19-20页
        2.1.3 滤波和A/D转换电路设计第20页
    2.2 磁头碰碟时的声发射信号分析第20-27页
        2.2.1 声发射信号单参数分析方法第20-22页
        2.2.2 磁头碰碟声发射的实验设备与方法第22-23页
        2.2.3 磁头碰碟前后声发射的对比第23-27页
    2.3 磁头碰碟的声发射的特征参数确定第27-29页
    2.4 磁头碰碟的声发射特征参数的通用性验证第29-30页
    2.5 本章小结第30-31页
第三章 动态测试中声发射干扰噪音的研究及消除第31-42页
    3.1 AE检测面临的干扰噪声主要有下面几种第31-32页
        3.1.1 电气干扰噪声第31页
        3.1.2 机械噪声源第31页
        3.1.3 声波传播途径引起的声信号畸变和衰减第31-32页
    3.2 克服干扰噪声的常用方法第32-33页
    3.3 动态测试中的噪音类型及改善方法第33-41页
        3.3.1 空间电磁干扰第34-35页
        3.3.2 压缩空气干扰第35-36页
        3.3.3 电路中的电感振动第36-38页
        3.3.4 动态测试仪的马达振动噪音第38-41页
    3.4 本章小结第41-42页
第四章 实验及结果分析第42-52页
    4.1 实验设备第42-44页
        4.1.1 扫描电子显微镜(SEM,Scanning Electron Microscope)第42-43页
        4.1.2 原子力显微镜(AFM,Atomic Force Microscope)第43页
        4.1.3 光学表面分析仪(OSA,Optical Surface Analyzer)第43-44页
    4.2 磁头磨损测试第44-49页
        4.2.1 用AFM来评估磁头磨损的深度第44-47页
        4.2.2 用SEM来评估批量生产中磁头磨损情况第47-49页
    4.3 磁头触碟测试对磁碟润滑层的损耗的评估第49页
    4.4 磁头飞行高度的重复性测试第49-51页
    4.5 本章小结第51-52页
第五章 总结与展望第52-53页
    5.1 本文总结第52页
    5.2 展望第52-53页
参考文献第53-56页
致谢第56-57页
攻读学位期间发表的学术论文第57-60页
附件第60页

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