| 摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第21-50页 |
| 1.1 嵌段共聚物自组装概述 | 第21-22页 |
| 1.2 三嵌段共聚物自组装 | 第22-28页 |
| 1.2.1 三嵌段共聚物本体自组装 | 第22-23页 |
| 1.2.2 三嵌段共聚物溶液自组装 | 第23-27页 |
| 1.2.3 三嵌段共聚物薄膜自组装 | 第27-28页 |
| 1.3 控制三嵌段共聚物微相取向的方法 | 第28-37页 |
| 1.3.1 基底改性 | 第28-29页 |
| 1.3.2 热退火 | 第29-32页 |
| 1.3.3 溶剂退火 | 第32-36页 |
| 1.3.4 添加金属离子 | 第36-37页 |
| 1.4 三嵌段共聚物自组装纳米结构的用途 | 第37-41页 |
| 1.4.1 癌症药物载体 | 第37-38页 |
| 1.4.2 图案转移 | 第38-40页 |
| 1.4.3 其他应用 | 第40-41页 |
| 1.5 贵金属纳米材料表面等离子体共振理论 | 第41-43页 |
| 1.5.1 贵金属纳米材料的简介 | 第41页 |
| 1.5.2 表面等离子体共振 | 第41-43页 |
| 1.6 金属表面等离子体共振在荧光效应中的应用 | 第43-45页 |
| 1.6.1 荧光的基本概念 | 第43页 |
| 1.6.2 表面增强荧光的理论模型 | 第43-44页 |
| 1.6.3 表面增强荧光的研究进展 | 第44-45页 |
| 1.7 金属表面等离子体共振在拉曼效应中的应用 | 第45-47页 |
| 1.7.1 拉曼效应 | 第45页 |
| 1.7.2 表面增强拉曼散射 | 第45-47页 |
| 1.7.3 表面增强拉曼散射的研究进展 | 第47页 |
| 1.8 本课题的研究思路以及研究内容 | 第47-50页 |
| 1.8.1 本课题的研究思路 | 第47页 |
| 1.8.2 本课题的研究内容 | 第47-50页 |
| 第二章 实验材料仪器与表征手段 | 第50-56页 |
| 2.1 材料与试剂 | 第50-51页 |
| 2.2 仪器与设备 | 第51-52页 |
| 2.3 表征手段 | 第52-56页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM) | 第52页 |
| 2.3.2 能谱仪(Energy-dispersive Spectroscopy, EDS) | 第52页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope, TEM) | 第52-53页 |
| 2.3.4 原子力显微镜(Atomic Force Microscopy, AFM) | 第53页 |
| 2.3.5 椭圆偏振光谱仪(Spectroscopic Ellipsometer) | 第53-54页 |
| 2.3.6 傅里叶变换红外光谱仪(Fourier Transform Infrared Spectrometer, FT-IR) | 第54页 |
| 2.3.7 紫外可见分光光度计(Ultraviolet and Visible Spectrometer) | 第54页 |
| 2.3.8 X射线光电子能谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy,XPS) | 第54-55页 |
| 2.3.9 荧光光谱仪(Fluorescence Spectrometer) | 第55页 |
| 2.3.10 激光拉曼光谱仪(Laser Raman Spectroscopy) | 第55-56页 |
| 第三章 通过溶剂退火制备PS-b-P2VP-b-PEO有序纳米图案及其机理研究 | 第56-64页 |
| 3.1 前言 | 第56页 |
| 3.2 样品的制备 | 第56-57页 |
| 3.2.1 基底的清洗 | 第56-57页 |
| 3.2.2 PS-b-P2VP-b-PEO纳米图案的制备 | 第57页 |
| 3.3 样品的表征方法 | 第57页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第57-63页 |
| 3.4.1 溶剂种类对PS-b-P2VP-b-PEO纳米图案的影响 | 第57-58页 |
| 3.4.2 旋涂转速对PS-b-P2VP-b-PEO纳米图案的影响 | 第58-59页 |
| 3.4.3 薄膜厚度对PS-b-P2VP-b-PEO纳米图案的影响 | 第59-61页 |
| 3.4.4 溶剂退火周期对PS-b-P2VP-b-PEO纳米图案的影响 | 第61-63页 |
| 3.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第四章 加入LiCl四氢呋喃溶液制备PS-b-P2VP-b-PEO有序纳米图案及其机理分析 | 第64-72页 |
| 4.1 前言 | 第64页 |
| 4.2 样品的制备 | 第64-65页 |
| 4.2.1 基底的清洗 | 第64-65页 |
| 4.2.2 加入无机盐四氢呋喃溶液制备PS-b-P2VP-b-PEO有序纳米图案 | 第65页 |
| 4.3 样品的表征方法 | 第65页 |
| 4.4 实验结果与讨论 | 第65-70页 |
| 4.4.1 LiCl在四氢呋喃中的分散情况 | 第65-66页 |
| 4.4.2 LiCl加入量的影响 | 第66-67页 |
| 4.4.3 红外光谱与紫外-可见光谱 | 第67-69页 |
| 4.4.4 X射线光电子能谱图 | 第69-70页 |
| 4.4.5 掺杂LiCl-THF体系前后薄膜纳米图案转变的机理分析 | 第70页 |
| 4.5 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 加入LiCl甲苯溶液制备PS-b-P2VP-b-PEO有序纳米图案及其机理分析 | 第72-83页 |
| 5.1 前言 | 第72-73页 |
| 5.2 样品的制备 | 第73页 |
| 5.2.1 基底的清洗 | 第73页 |
| 5.2.2 加入无机盐制备PS-b-P2VP-b-PEO有序纳米图案 | 第73页 |
| 5.3 样品的表征方法 | 第73页 |
| 5.4 实验结果与讨论 | 第73-82页 |
| 5.4.1 LiCl在甲苯中的分散情况 | 第73-74页 |
| 5.4.2 对LiCl与PS-b-P2VP-b-PEO聚合物混合溶液不同处理方法的影响 | 第74-75页 |
| 5.4.3 超声处理时间的影响 | 第75-77页 |
| 5.4.4 LiCl掺杂量的影响 | 第77-79页 |
| 5.4.5 红外光谱与紫外-可见光谱 | 第79-81页 |
| 5.4.6 X射线光电子能谱图 | 第81-82页 |
| 5.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第六章 PI-b-PS-b-P2VP薄膜有序纳米图案的调控以及纳米金颗粒阵列的制备 | 第83-97页 |
| 6.1 前言 | 第83页 |
| 6.2 样品的制备 | 第83-84页 |
| 6.2.1 基底清洗 | 第83-84页 |
| 6.2.2 PI-b-PS-b-P2VP纳米图案的制备 | 第84页 |
| 6.2.3 PI-b-PS-b-P2VP纳米孔洞的制备 | 第84页 |
| 6.2.4 以PI-b-PS-b-P2VP有序图案为模板制备纳米金颗粒阵列 | 第84页 |
| 6.3 样品的表征方法 | 第84-85页 |
| 6.4 实验结果与讨论 | 第85-96页 |
| 6.4.1 聚合物溶剂的影响 | 第85-86页 |
| 6.4.2 聚合物溶液浓度的影响 | 第86页 |
| 6.4.3 旋涂转速的影响 | 第86-87页 |
| 6.4.4 退火溶剂的影响 | 第87-88页 |
| 6.4.5 溶剂退火温度的影响 | 第88-89页 |
| 6.4.6 溶剂退火时间的影响 | 第89-90页 |
| 6.4.7 PI-b-PS-b-P2VP纳米孔洞 | 第90-91页 |
| 6.4.8 不同PI-b-PS-b-P2VP有序纳米图案的微相变化 | 第91-93页 |
| 6.4.9 纳米金颗粒阵列制备原理 | 第93页 |
| 6.4.10 通过不同模板制备不同的纳米金颗粒阵列 | 第93-95页 |
| 6.4.11 不同的纳米金颗粒阵列的消光光谱 | 第95-96页 |
| 6.5 本章小结 | 第96-97页 |
| 第七章 PI-b-PS-b-P2VP胶束法制备纳米金颗粒阵列及其光学性能研究 | 第97-108页 |
| 7.1 前言 | 第97-98页 |
| 7.2 样品的制备 | 第98页 |
| 7.2.1 清洗基底 | 第98页 |
| 7.2.2 PI-b-PS-b-P2VP胶束法制备纳米金阵列 | 第98页 |
| 7.2.3 聚(3-己基噻吩)薄膜的制备 | 第98页 |
| 7.3 样品的表征方法 | 第98-99页 |
| 7.4 实验结果与讨论 | 第99-106页 |
| 7.4.1 PI-b-PS-b-P2VP胶束法制备纳米金阵列的原理 | 第99页 |
| 7.4.2 PI-b-PS-b-P2VP胶束溶液及其胶束形貌 | 第99-100页 |
| 7.4.3 纳米金颗粒阵列的形貌及其粒径分布 | 第100-103页 |
| 7.4.4 不同纳米金颗粒阵列的消光光谱图 | 第103页 |
| 7.4.5 纳米金颗粒阵列对P3HT的荧光增强效应 | 第103-105页 |
| 7.4.6 在不同基底上的P3HT拉曼光谱图 | 第105页 |
| 7.4.7 纳米金颗粒阵列磁场增强机理 | 第105-106页 |
| 7.5 本章小结 | 第106-108页 |
| 结论 | 第108-111页 |
| 参考文献 | 第111-136页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第136-139页 |
| 致谢 | 第139-140页 |
