| 中文摘要 | 第7-10页 |
| ABSTRACT | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-56页 |
| 1.1 硅片技术简介 | 第14-31页 |
| 1.1.1 平面硅的性质及应用 | 第14-16页 |
| 1.1.2 多孔硅的性质及应用 | 第16-21页 |
| 1.1.2.1 多孔硅的性质 | 第16-17页 |
| 1.1.2.2 多孔硅的制备 | 第17-21页 |
| 1.1.3 硅表面微纳米加工技术 | 第21-29页 |
| 1.1.3.1 平面工艺 | 第22-24页 |
| 1.1.3.2 探针工艺 | 第24页 |
| 1.1.3.3 模型工艺 | 第24-26页 |
| 1.1.3.4 基于嵌段共聚物的光刻技术 | 第26-29页 |
| 1.1.4 硅表面化学修饰技术 | 第29-31页 |
| 1.1.4.1 硅表面的湿化学反应 | 第29-31页 |
| 1.1.4.2 硅表面进一步化学修饰 | 第31页 |
| 1.2 聚合物分子刷的性质与应用 | 第31-39页 |
| 1.2.1 聚合物分子刷的制备 | 第31-34页 |
| 1.2.1.1 常用的制备聚合物分子刷的方法 | 第32-34页 |
| 1.2.1.2 聚合物分子刷的图案化 | 第34页 |
| 1.2.2 聚合物分子刷的性质 | 第34-37页 |
| 1.2.2.1 溶胀状态下的性质 | 第34-36页 |
| 1.2.2.2 干燥状态下的性质 | 第36-37页 |
| 1.2.3 功能化聚合物分子刷 | 第37-38页 |
| 1.2.3.1 溶剂响应型聚合物刷 | 第37页 |
| 1.2.3.2 温敏型聚合物刷 | 第37页 |
| 1.2.3.3 pH值和离子敏感型聚合物刷 | 第37-38页 |
| 1.2.4 聚合物分子刷的应用 | 第38-39页 |
| 1.3 DNA纳米自组装技术 | 第39-51页 |
| 1.3.1 DNA自组装基本知识 | 第40-41页 |
| 1.3.2 DNA自组装技术的发展 | 第41-45页 |
| 1.3.2.1 二维的DNA自组装结构 | 第41-42页 |
| 1.3.2.2 三维的DNA自组装结构 | 第42-43页 |
| 1.3.2.3 DNA导向的多元纳米器件的自组装 | 第43-45页 |
| 1.3.3 DNA纳米管的组装 | 第45-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 第二章 硅表面分子刷图案化以及生长DNA纳米管 | 第56-72页 |
| 2.1 前言 | 第56-58页 |
| 2.2 实验部分 | 第58-63页 |
| 2.2.1 实验仪器 | 第58页 |
| 2.2.2 实验试剂 | 第58-60页 |
| 2.2.3 实验步骤 | 第60-63页 |
| 2.2.3.1 硅片表面的化学修饰过程 | 第60-62页 |
| 2.2.3.2 DNA纳米管(6HB)的生长 | 第62-63页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第63-69页 |
| 2.3.1 硅片表面的化学修饰及红外表征 | 第64-65页 |
| 2.3.2 硅片表面的图案化及图案处的NHS酯化 | 第65-67页 |
| 2.3.3 DNA管状晶体的生长以及固定 | 第67-69页 |
| 2.3.3.1 DNA管状晶体的生长 | 第67页 |
| 2.3.3.2 非变性凝胶电泳 | 第67-68页 |
| 2.3.3.3 DNA纳米管的TEM测试 | 第68页 |
| 2.3.3.4 原位组装6HB DNA纳米管的SEM测试 | 第68-69页 |
| 2.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第三章 嵌段共聚物PS-P4VP旋涂膜作模板的纳米孔刻蚀及聚合物刷的定域生长 | 第72-109页 |
| 3.1 引言 | 第72-74页 |
| 3.2 实验部分 | 第74-77页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第74页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第74-75页 |
| 3.2.3 实验步骤 | 第75-77页 |
| 3.2.3.1 硅片的清洗 | 第75页 |
| 3.2.3.2 制备PS-P4VP胶束 | 第75页 |
| 3.2.3.3 纳米孔的制备 | 第75-76页 |
| 3.2.3.4 纳米孔内聚合物的合成 | 第76-77页 |
| 3.2.3.5 金属纳米粒子的沉积 | 第77页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第77-106页 |
| 3.3.1 硅表面纳米孔的形成 | 第77-87页 |
| 3.3.1.1 不同种类硅片腐蚀的形貌 | 第77-78页 |
| 3.3.1.2 不同浓度的HF腐蚀液及腐蚀时间对其形貌的影响 | 第78-79页 |
| 3.3.1.3 溶剂对其表面形貌的影响 | 第79-80页 |
| 3.3.1.4 纳米孔的形貌改善 | 第80-84页 |
| 3.3.1.5 金属辅助化学腐蚀法的尝试 | 第84-87页 |
| 3.3.2 纳米孔内的金属纳米粒子的定域沉积 | 第87-90页 |
| 3.3.2.1 孔内Au纳米粒子的沉积 | 第87-89页 |
| 3.3.2.2 孔内Ag纳米粒子的沉积 | 第89-90页 |
| 3.3.3 纳米孔内的聚合物刷的定域生长 | 第90-106页 |
| 3.3.3.1 纳米孔内poly(PEGMA)聚合物刷的形成 | 第90-92页 |
| 3.3.3.2 纳米孔内PMAA聚合物刷的形成 | 第92-93页 |
| 3.3.3.3 孔内PMAA聚合物刷随pH改变的形貌变化 | 第93-102页 |
| 3.3.3.4 与FIB法所形成的纳米孔的比较 | 第102-104页 |
| 3.3.3.5 纳米孔内PMAA/PNIPAM共聚物的形成 | 第104-105页 |
| 3.3.3.6 PMAA/PNIPAM分子刷的EDC/NHS酯化反应初探 | 第105-106页 |
| 3.4 本章小结 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-109页 |
| 第四章 PMAA的EDC/NHS活化反应机理研究 | 第109-129页 |
| 4.1 引言 | 第109-112页 |
| 4.2 实验部分 | 第112-114页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第112页 |
| 4.2.2 实验试剂 | 第112页 |
| 4.2.3 实验步骤 | 第112-114页 |
| 4.2.3.1 硅片的清洗 | 第112-113页 |
| 4.2.3.2 金属辅助腐蚀法制备多孔硅 | 第113页 |
| 4.2.3.3 硅表面硅烷化以及溴引发剂的修饰 | 第113页 |
| 4.2.3.4 硅表面SI-ATRP法聚合PMAA和PMAA/PNIPAM分子刷 | 第113-114页 |
| 4.2.3.5 PMAA和PMAA/PNIPAM分子刷的EDC/NHS活化 | 第114页 |
| 4.2.3.6 3-氨基-1-叠氮基丙烷(AAP)的制备 | 第114页 |
| 4.2.3.7 PMAA和PMAA/PNIPAM分子刷酯化后的氨解和水解 | 第114页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第114-125页 |
| 4.3.1 PMAA高分子刷被多次重复EDC/NHS活化和氨解 | 第114-122页 |
| 4.3.2 含不同PMAA浓度的PMAA/PNIPAM无序共聚物的EDC/NHS活化 | 第122-125页 |
| 4.4 本章小结 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-129页 |
| 第五章 总结与展望 | 第129-132页 |
| 5.1 论文总结 | 第129-131页 |
| 5.2 工作展望 | 第131-132页 |
| 已发表和待发表论文 | 第132-134页 |
| 致谢 | 第134-135页 |
