微纳光栅制备及其偏振特性的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-10页 |
| ·研究现状 | 第10-14页 |
| ·微纳偏振光栅的制造与集成 | 第10-14页 |
| ·嵌入式偏振光栅制造 | 第14页 |
| ·课题主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 微纳金属光栅的偏振特性理论与仿真验证 | 第16-21页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·光栅的偏振特性理论解释 | 第16-17页 |
| ·集成微纳光栅的偏振性能仿真 | 第17-21页 |
| 第三章 干涉光刻制备单方向微纳光栅 | 第21-29页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·干涉光刻原理 | 第21-23页 |
| ·干涉光刻原理简介 | 第21页 |
| ·光栅制造的目标参数及其影响因素 | 第21-23页 |
| ·干涉光刻制造光栅结构 | 第23-29页 |
| ·干涉光刻系统简介 | 第23-24页 |
| ·干涉光刻系统的光路设计及光栅制造 | 第24-26页 |
| ·液浸式干涉光刻系统的光路设计及光栅制造 | 第26-29页 |
| 第四章 电子束曝光制备多方向微纳偏振光栅阵列 | 第29-37页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·电子束-离子束工艺制造光栅结构 | 第29-30页 |
| ·工艺流程 | 第29-30页 |
| ·电子束工艺与优化 | 第30-33页 |
| ·电子束曝光简介 | 第30页 |
| ·电子束曝光的影响因素 | 第30-32页 |
| ·实验中所用电子束系统 | 第32页 |
| ·电子束的工艺与优化 | 第32-33页 |
| ·离子束刻蚀工艺与优化 | 第33-36页 |
| ·反应离子束刻蚀简介 | 第33-34页 |
| ·刻蚀性能指标及影响因素 | 第34页 |
| ·反应离子束刻蚀工艺及其优化过程 | 第34-36页 |
| ·表征 | 第36-37页 |
| 第五章 微纳光栅的光学表征与消光比测量 | 第37-41页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·光路设置 | 第37-38页 |
| ·光路组成 | 第37-38页 |
| ·实验流程 | 第38页 |
| ·结果分析 | 第38-41页 |
| 第六章 总结与展望 | 第41-43页 |
| ·总结 | 第41-42页 |
| ·展望 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 作者简介 | 第46页 |
