| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·论文研究的背景和意义 | 第7页 |
| ·分子蒸馏的原理及特点 | 第7-10页 |
| ·分子蒸馏的原理 | 第7-8页 |
| ·分子蒸馏的特点 | 第8-9页 |
| ·分子蒸馏设备构成 | 第9-10页 |
| ·论文选题在该领域国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·分子蒸馏模型辨识的研究现状 | 第10-11页 |
| ·多变量解耦控制方法的研究现状 | 第11-12页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 分子蒸馏设备蒸发过程模型 | 第13-22页 |
| ·蒸馏模型辨识 | 第13-19页 |
| ·模型结构的选择 | 第13-15页 |
| ·模型参数的确定 | 第15-18页 |
| ·辨识试验 | 第18-19页 |
| ·模型验证 | 第19-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 解耦控制分析与研究 | 第22-33页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·解耦控制系统概述 | 第22页 |
| ·系统耦合程度的分析 | 第22-25页 |
| ·相对增益矩阵的定义 | 第23页 |
| ·相对增益的性质 | 第23-24页 |
| ·相对增益矩阵计算方法 | 第24-25页 |
| ·MIMO系统解耦设计方法 | 第25-30页 |
| ·前馈补偿解耦控制 | 第26-27页 |
| ·对角矩阵解耦控制 | 第27-29页 |
| ·单位矩阵解耦控制 | 第29-30页 |
| ·分子蒸馏蒸发过程的解耦 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 MIMO系统的IMC控制 | 第33-49页 |
| ·MIMO过程IMC控制的结构与性质 | 第33-35页 |
| ·内模控制的基本机构 | 第33-34页 |
| ·内模控制的基本性质 | 第34-35页 |
| ·IMC控制器的设计方法 | 第35-38页 |
| ·IMC控制器的典型设计方法 | 第35-36页 |
| ·IMC控制器两部设计法 | 第36-38页 |
| ·多变量内模PID控制 | 第38-44页 |
| ·时滞项的帕德逼近 | 第38-40页 |
| ·基于二阶帕德逼近的时滞系统内模PID控制 | 第40-42页 |
| ·IMC-PID控制器滤波参数 | 第42-44页 |
| ·基于IMC-PID控制算法在分子蒸馏蒸发过程的应用 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 应用软件设计与开发 | 第49-55页 |
| ·概述 | 第49页 |
| ·软件结构 | 第49-51页 |
| ·被控对象输入模块 | 第50页 |
| ·对角矩阵解耦模块 | 第50页 |
| ·内模PID控制模块 | 第50-51页 |
| ·解耦控制软件流程及功能 | 第51-54页 |
| ·解耦控制软件的流程 | 第51页 |
| ·软件功能 | 第51-52页 |
| ·软件应用实例 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| ·研究展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 作者简介 | 第63页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第63-64页 |