中文摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-15页 |
第一章 绪论 | 第15-41页 |
·引言 | 第15-18页 |
·自旋电子学 | 第18-21页 |
·磁电阻效应 | 第19-21页 |
·半金属磁体 | 第21-30页 |
·半金属磁体的基本特征 | 第24-26页 |
·半金属磁体的分类 | 第26-28页 |
·判断材料半金属性的方法 | 第28-30页 |
·半金属铁磁体二氧化铬的性质及研究现状 | 第30-32页 |
·二氧化铬的晶体结构 | 第30-31页 |
·二氧化铬的金属性和磁性 | 第31-32页 |
·二氧化铬的磁电阻 | 第32页 |
·本文选题背景及研究内容 | 第32-41页 |
第二章 铬氧相图及本论文的研究方法 | 第41-45页 |
·引言 | 第41页 |
·铬氧相图 | 第41-43页 |
·本论文所采用的实验方法及测试手段 | 第43-45页 |
第三章 CrO_2薄膜的合成及其输运性质的研究 | 第45-57页 |
·引言 | 第45-46页 |
·实验部分 | 第46-48页 |
·实验装置图 | 第46-47页 |
·实验原理 | 第47页 |
·基底的处理 | 第47-48页 |
·CrO_2薄膜的制备 | 第48页 |
·实验结果的分析和讨论 | 第48-54页 |
·CrO_2薄膜的 XRD 表征 | 第48-49页 |
·CrO_2薄膜 FESEM 表征 | 第49-50页 |
·CrO_2薄膜的磁性 | 第50-51页 |
·CrO_2薄膜的导电机制 | 第51-52页 |
·CrO_2薄膜的磁电阻效应 | 第52-54页 |
·本章小结 | 第54-57页 |
第四章 CrO_2-Al_2O_3薄膜的合成及输运性质的研究 | 第57-69页 |
·引言 | 第57-58页 |
·实验部分 | 第58-60页 |
·实验装置图 | 第58页 |
·实验原理 | 第58-59页 |
·基底的处理 | 第59页 |
·CrO_2-Al_2O_3薄膜的制备 | 第59-60页 |
·实验结果的分析和讨论 | 第60-66页 |
·CrO_2-Al_2O_3薄膜的结构 | 第60-61页 |
·CrO_2-Al_2O_3薄膜的形貌 | 第61-62页 |
·CrO_2-Al_2O_3薄膜的磁性 | 第62-63页 |
·CrO_2-Al_2O_3薄膜的导电机制 | 第63-65页 |
·CrO_2-Al_2O_3薄膜的磁电阻效应 | 第65-66页 |
·本章小结 | 第66-69页 |
第五章 CrO_2薄膜在 TiO_2纳米管基底上的生长和输运性质的研究55 | 第69-85页 |
·引言 | 第69页 |
·实验 | 第69-74页 |
·TiO_2纳米管阵列的制备 | 第69-70页 |
·实验装置图 | 第70-71页 |
·实验原理 | 第71页 |
·TiO_2纳米管的结构分析 | 第71-72页 |
·TiO_2纳米管的形貌 | 第72-73页 |
·CrO_2薄膜的生长 | 第73-74页 |
·实验结果的分析和讨论 | 第74-82页 |
·CrO_2薄膜的结构 | 第74-75页 |
·CrO_2薄膜的形貌 | 第75-77页 |
·CrO_2薄膜的磁性 | 第77-79页 |
·CrO_2薄膜的导电机制 | 第79-80页 |
·CrO_2薄膜的磁电阻效应 | 第80-82页 |
·本章小结 | 第82-85页 |
第六章 高氧压下 Cr 膜和 Fe 膜氧化和磁性研究 | 第85-95页 |
·引言 | 第85-86页 |
·实验部分 | 第86-89页 |
·磁控溅射 Cr 膜和 Fe 膜 | 第86-88页 |
·高纯 Cr 和 Fe 薄膜的 FE-SEM 表面形貌 | 第88页 |
·高氧压下 Cr 膜和 Fe 膜的氧化 | 第88-89页 |
·实验结果的分析和讨论 | 第89-94页 |
·Cr 膜氧化后的 XPS 分析 | 第90-91页 |
·Cr 膜氧化后 FESEM 表面形貌图 | 第91-92页 |
·Cr 膜氧化后的磁性 | 第92页 |
·Fe 膜氧化后的结构 | 第92-93页 |
·Fe 膜氧化后 FESEM 表面形貌图 | 第93页 |
·Fe 膜氧化后的磁性 | 第93-94页 |
·本章小结 | 第94-95页 |
第七章 结论 | 第95-99页 |
参考文献 | 第99-111页 |
攻读博士学位期间完成的学术论文 | 第111-113页 |
作者简介 | 第113-115页 |
致谢 | 第115页 |