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不同激发频率下容性耦合等离子体的实验诊断及晶硅表面制绒研究

中文摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 序言第10-16页
   ·研究背景第10-11页
   ·等离子体简介第11-12页
   ·几种不同晶硅表面制绒方式的概述第12-14页
   ·本文主要研究内容第14-16页
第二章 容性耦合等离子体实验装置及诊断方法第16-23页
   ·容性耦合等离子体实验装置第16-17页
   ·容性耦合等离子体诊断技术第17-23页
     ·微波共振探针诊断技术第17-19页
     ·发射光谱技术第19-23页
第三章 容性耦合等离子体电学参量的测量第23-36页
   ·等离子体极板负偏压的测量第24-26页
   ·氟基等离子体电子密度的测量第26-29页
   ·等离子体发射光谱的测量第29-36页
     ·不同射频输入功率对发射光谱的影响第30-32页
     ·放电气压对发射光谱强度的影响第32-33页
     ·不同气体流量比对发射光谱强度的影响第33-36页
第四章 不同射频驱动频率产生等离子体对单晶硅绒面及反射率的影响第36-59页
   ·激发频率为 13.56MHz 的容性耦合等离子体干法制绒实验第37-41页
   ·激发频率为 27.12MHz 容性耦合等离子体干法制绒实验第41-47页
   ·激发频率为 40.68MHz 容性耦合等离子体干法制绒实验第47-54页
   ·容性耦合等离子体制绒小结第54-59页
第五章 结论第59-61页
参考文献第61-65页
攻读硕士学位期间公开发表的论文及科研成果第65-66页
致谢第66-67页

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