| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-20页 |
| ·希夫碱在液晶和非线性光学材料方面的研究进展 | 第11-14页 |
| ·希夫碱类液晶材料的研究 | 第11-12页 |
| ·希夫碱类非线性光学材料的研究 | 第12-14页 |
| ·取代基和光谱性能的关系 | 第14-17页 |
| ·取代基对分子~(13)C NMR的影响 | 第14-15页 |
| ·取代基对分子紫外吸收光谱的影响 | 第15-17页 |
| ·分子构型和光谱性能关系的研究 | 第17页 |
| ·分子结构与光谱性能关系的研究方法 | 第17-18页 |
| ·本论文的整体构想和研究思路 | 第18-20页 |
| 2 模型化合物的合成及表征 | 第20-38页 |
| ·模型化合物的合成 | 第20-24页 |
| ·XBASBY的合成 | 第20-21页 |
| ·XSBBAY的合成 | 第21-22页 |
| ·XBBAY和XBABY的合成 | 第22-23页 |
| ·双希夫碱XAAX和YBBY的合成 | 第23-24页 |
| ·模型化合物的光谱性能测定 | 第24-38页 |
| ·~1H NMR和~(13)C NMR表征 | 第24-36页 |
| ·紫外吸收光谱测定 | 第36-38页 |
| 3 不同共轭链长度希夫碱中δ_C(C=N)的变化规律 | 第38-65页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·取代基对XBASBY中δ_C(C=N)的影响 | 第39-52页 |
| ·取代基X对δ_C(C=N)的影响 | 第39-44页 |
| ·取代基Y对δ_c(C=N)的影响 | 第44-48页 |
| ·取代基X和Y的相互作用对δ_C(C=N)的影响 | 第48-52页 |
| ·芳基希夫碱中取代基远程传递效应对δ_C(C=N)的影响 | 第52-63页 |
| ·X取代基效应的远程效应对δ_C(C=N)的影响 | 第52-57页 |
| ·Y取代基效应的远程效应对δ_C(C=N)的影响 | 第57-58页 |
| ·X和Y取代基相互作用的远程效应对δ_C(C=N)的影响 | 第58-63页 |
| ·结论 | 第63-65页 |
| 4 XBASBY紫外吸收光谱的变化规律 | 第65-76页 |
| ·引言 | 第65页 |
| ·取代基效应对XBASBY紫外光谱的影响 | 第65-75页 |
| ·取代基X对v_(max)的影响 | 第66-68页 |
| ·取代基Y对v_(max)的影响 | 第68-70页 |
| ·取代基X和Y的相互作用对v_(max)的影响 | 第70-75页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| 5 分子构型对双希夫碱光谱性能的影响 | 第76-92页 |
| ·引言 | 第76页 |
| ·单晶培养及测试 | 第76-81页 |
| ·分子构型对双希夫碱XAAX光谱性能的影响 | 第81-86页 |
| ·XAAX的晶体结构 | 第81-82页 |
| ·分子构型对XAAX的紫外吸收光谱的影响 | 第82-85页 |
| ·分子构型对XAAX的~(13)C NMR的影响 | 第85-86页 |
| ·分子构型对双希夫碱YBBY光谱性能的影响 | 第86-91页 |
| ·YBBY的晶体结构 | 第86-87页 |
| ·分子构型对YBBY的紫外吸收光谱的影响 | 第87-89页 |
| ·分子构型对YBBY的~(13)C NMR的影响 | 第89-91页 |
| ·结论 | 第91-92页 |
| 6 结论与展望 | 第92-94页 |
| ·结论 | 第92-93页 |
| ·展望 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-108页 |
| 附录 | 第108-151页 |
| 攻读博士学位期间主要的科研成果 | 第151-152页 |
| 致谢 | 第152页 |
