| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·纳米多层膜 | 第10-12页 |
| ·多层膜简介 | 第10-11页 |
| ·多层膜的种类 | 第11-12页 |
| ·性能特点 | 第12-14页 |
| ·硬度 | 第12-13页 |
| ·热稳定性 | 第13-14页 |
| 第二章 实验及表征 | 第14-22页 |
| ·样品的制备 | 第14-16页 |
| ·实验装置及材料选择 | 第14-15页 |
| ·制备流程 | 第15-16页 |
| ·薄膜的性能表征 | 第16-19页 |
| ·厚度和残余应力测试 | 第16-17页 |
| ·硬度和弹性模量测试 | 第17-18页 |
| ·膜基结合测试 | 第18-19页 |
| ·薄膜的结构表征 | 第19-22页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第19页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第19-21页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第21-22页 |
| 第三章 TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜的结构和性能 | 第22-40页 |
| ·TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜的制备 | 第22页 |
| ·TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜的层状表征 | 第22-24页 |
| ·XRR分析 | 第22-23页 |
| ·SEM分析 | 第23-24页 |
| ·XPS深度剖析 | 第24页 |
| ·实验参数对TiAlN/Al_2O_3多层膜的影响 | 第24-39页 |
| ·调制周期对TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜性能的影响 | 第24-29页 |
| ·调制比对TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜性能的影响 | 第29-31页 |
| ·Ar/N_2比对TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜性能的影响 | 第31-35页 |
| ·工作气压对TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜性能的影响 | 第35-37页 |
| ·偏压对TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜性能的影响 | 第37-39页 |
| ·本章总结 | 第39-40页 |
| 第四章 TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜热稳定性的研究 | 第40-51页 |
| ·真空退火对TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜的影响 | 第40-46页 |
| ·空气退火对TiAlN/Al_2O_3纳米多层膜的影响 | 第46-50页 |
| ·本章总结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
