| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·V_2O_5和VO_2材料的理化性能 | 第10-11页 |
| ·V_2O_5和VO_2薄膜的晶体结构 | 第11-13页 |
| ·氧化钒薄膜的应用前景 | 第13-14页 |
| ·本论文主要工作 | 第14-15页 |
| 第二章 氧化钒薄膜的制备 | 第15-24页 |
| ·几种VO_x薄膜常见的制备方法 | 第15-17页 |
| ·溅射法 | 第15页 |
| ·蒸发法 | 第15-16页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol-Gel) | 第16页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第16-17页 |
| ·本文VO_x薄膜样品的制备过程及测试方法 | 第17-18页 |
| ·实验装置 | 第17页 |
| ·实验材料及样品 | 第17-18页 |
| ·样品预处理 | 第18页 |
| ·薄膜测试方法 | 第18页 |
| ·实验设计 | 第18-20页 |
| ·沉积速率 | 第20-24页 |
| ·氧分压对沉积速率的影响 | 第20-21页 |
| ·溅射功率对沉积速率的影响 | 第21-22页 |
| ·工作气压对沉积速率的影响 | 第22-23页 |
| ·基底负偏压对沉积速率的影响 | 第23-24页 |
| 第三章 氧化钒薄膜的物相结构和表面形貌 | 第24-35页 |
| ·氧分压对VO_x薄膜物相结构和表面形貌的影响 | 第24-29页 |
| ·氧分压对VO_x薄膜物相结构的影响 | 第24-27页 |
| ·氧分压对VO_x薄膜表面形貌的影响 | 第27-29页 |
| ·溅射功率对VO_x薄膜物相结构和表面形貌的影响 | 第29-33页 |
| ·溅射功率对VO_x薄膜物相结构的影响 | 第29-31页 |
| ·溅射功率对VO_x薄膜表面形貌的影响 | 第31-33页 |
| ·工作气压对VO_x薄膜物相结构的影响 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 氧化钒薄膜的光学性能 | 第35-48页 |
| ·VO_x薄膜光学性能的测试 | 第35-39页 |
| ·VO_x薄膜透射率、反射率的测量 | 第35-36页 |
| ·VO_x薄膜折射率、吸光度的测量 | 第36-39页 |
| ·氧分压对VO_x薄膜光学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·不同氧分压下VO_x薄膜的光透过率 | 第39-41页 |
| ·不同氧分压参数下VO_x薄膜的折射率和吸光度 | 第41-42页 |
| ·溅射功率对VO_x薄膜光学性能的影响 | 第42-45页 |
| ·不同功率参数下VO_x薄膜的光透过率 | 第42-43页 |
| ·不同功率参数下VO_x薄膜的折射率和吸光度 | 第43-45页 |
| ·工作气压对VO_x薄膜光学性能的影响 | 第45-46页 |
| ·基底负偏压对VO_x薄膜光学性能的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 氧化钒薄膜的力学性能 | 第48-55页 |
| ·氧分压对VO_x薄膜力学性能的影响 | 第48-50页 |
| ·溅射功率对VO_x薄膜力学性能的影响 | 第50-52页 |
| ·工作气压对VO_x薄膜力学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第六章 掺杂对氧化钒薄膜物相结构和光学性能的影响 | 第55-65页 |
| ·实验设计 | 第55-56页 |
| ·掺钨的情况下不同工艺参数对沉积速率的影响 | 第56-60页 |
| ·溅射功率对掺钨氧化钒沉积速率的影响 | 第56-57页 |
| ·工作气压对掺钨氧化钒沉积速率的影响 | 第57-58页 |
| ·氧氩流量比对掺钨氧化钒沉积速率的影响 | 第58-59页 |
| ·掺钨量对沉积速率的影响 | 第59-60页 |
| ·掺钨对氧化钒薄膜物相结构的影响 | 第60-61页 |
| ·掺钨对氧化钒薄膜光学性能的影响 | 第61-64页 |
| ·掺钨情况下溅射功率对VO_x薄膜光学性能的影响 | 第61-62页 |
| ·工作气压对掺钨VO_x薄膜光学性能的影响 | 第62页 |
| ·掺钨情况下氧氩流量比对VO_x薄膜光学性能的影响 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第七章 总结和展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |