| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·RRAM的研究进展 | 第10-19页 |
| ·工作的目的和意义 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 La_(0.67)Sr_(0.33)MnO_3薄膜的生长方法和表征 | 第25-37页 |
| ·LSMO薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第25页 |
| ·脉冲激光沉积技术(PLD) | 第25-26页 |
| ·磁控溅射法(Direct current reactive magnetron sputtering) | 第26-27页 |
| ·分子束外延(Molecular beam epitaxy,MBE) | 第27-28页 |
| ·LSMO薄膜的表征 | 第28-34页 |
| ·X射线衍射 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜(Scanning Electronic Microscopy,SEM) | 第29-30页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第30-32页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第32页 |
| ·电化学工作站(Chi660B) | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-37页 |
| 第三章 FTO导电玻璃上沉积的La_(0.67)Sr_(0.33)MnO_3薄膜的电阻开关特性的研究 | 第37-53页 |
| ·前言 | 第37-38页 |
| ·实验 | 第38-39页 |
| ·LSMO靶材的制备 | 第38页 |
| ·LSMO薄膜的制备 | 第38页 |
| ·LSMO/FTO薄膜异质结样品的表征 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-41页 |
| ·LSMO薄膜的XRD分析 | 第39-40页 |
| ·LSMO薄膜的AFM分析 | 第40-41页 |
| ·不同激光能量薄膜器件的Ⅰ-Ⅴ曲线 | 第41页 |
| ·LSMO异质结的电阻开关特性研究 | 第41-46页 |
| ·电阻开关机制的讨论 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 第四章 不同上电极面积La_(0.67)Sr_(0.33)MnO_3薄膜的电阻开关性能的研究 | 第53-66页 |
| ·前言 | 第53-54页 |
| ·LSMO薄膜器件研究现状 | 第54-56页 |
| ·理论基础 | 第56-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-62页 |
| ·薄膜器件Ⅰ-Ⅴ曲线的测量方法 | 第59页 |
| ·薄膜器件Ⅱ-Ⅴ曲线特性分析 | 第59-61页 |
| ·LSMO薄膜器件(0.065 mm~2)电阻开关保持性能分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 攻读硕士学位期间完成的论文 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
