摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
·前言 | 第11页 |
·材料表面处理工艺 | 第11-13页 |
·表面化学热处理 | 第12页 |
·表面涂覆处理 | 第12-13页 |
·表面淬火 | 第13页 |
·其他表面强化工艺 | 第13页 |
·激光表面淬火 | 第13-16页 |
·激光表面淬火的原理 | 第13-14页 |
·激光表面淬火工艺的特点 | 第14页 |
·激光表面淬火工艺的影响因素 | 第14-16页 |
·激光表面淬火的材料强化机理 | 第16页 |
·激光表面淬火的研究与发展现状 | 第16-19页 |
·激光表面淬火的应用现状 | 第19-20页 |
·球墨铸铁材料特点 | 第20-21页 |
·本文的研究背景、内容及意义 | 第21-23页 |
·课题背景 | 第21页 |
·研究内容 | 第21页 |
·研究意义 | 第21-23页 |
第2章 球墨铸铁激光表面淬火温度场有限元分析 | 第23-34页 |
·有限元方法的概述 | 第23页 |
·ANSYS 的热分析特点 | 第23页 |
·传热学的理论基础 | 第23-24页 |
·激光表面淬火三维瞬态温度场的有限元模拟 | 第24-29页 |
·激光表面淬火温度场的计算模型 | 第25页 |
·激光表面淬火的数值模型假设 | 第25-26页 |
·热物性参数表的选择 | 第26页 |
·网格划分 | 第26-27页 |
·热载荷的施加及边界条件设置 | 第27-28页 |
·激光相变硬化层深度的预测 | 第28-29页 |
·数值模拟结果及分析 | 第29-33页 |
·数值模拟结果 | 第29-30页 |
·计算结果 | 第30-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第3章 球墨铸铁 QT600-3 的半导体激光表面淬火研究 | 第34-51页 |
·试验方案 | 第34-38页 |
·试验设备 | 第34-36页 |
·半导体激光器的特点 | 第36-37页 |
·试验材料 | 第37-38页 |
·试验过程 | 第38-39页 |
·试验结果 | 第39-44页 |
·激光相变硬化带 | 第39-41页 |
·激光相变硬化区 | 第41-42页 |
·过渡区及基体 | 第42-43页 |
·硬度及其分布状况分析 | 第43-44页 |
·激光表面淬火工艺参数对相变硬化层硬度的影响 | 第44-47页 |
·激光功率对相变硬化层硬度的影响 | 第44-45页 |
·扫描速度对相变硬化层硬度的影响 | 第45-46页 |
·光斑直径对相变硬化层硬度的影响 | 第46-47页 |
·激光表面淬火工艺参数对相变硬化层深度的影响 | 第47-49页 |
·激光功率对相变硬化层深度的影响 | 第47-48页 |
·扫描速度对相变硬化层深度的影响 | 第48页 |
·光斑直径对相变硬化层深度的影响 | 第48-49页 |
·试验结果与模拟结果的对比 | 第49-50页 |
·试验结果与模拟结果 | 第49-50页 |
·数值模拟误差分析 | 第50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第4章 球墨铸铁 QT600-3 激光相变硬化层耐磨性分析 | 第51-57页 |
·摩擦磨损机理与特性 | 第51-52页 |
·摩擦磨损基本原理 | 第51页 |
·摩擦磨损的分类 | 第51-52页 |
·影响磨损的因素 | 第52页 |
·摩擦磨损试验设备与试验方法 | 第52-53页 |
·半导体激光相变硬化层耐磨性分析 | 第53-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
结论与展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第63页 |