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富In的InGaN材料的第一性原理研究

中文摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
1 绪论第9-18页
   ·物理和化学中的量子力学计算第9-10页
   ·密度泛函理论和第一性原理计算第10-13页
   ·InN 材料和三族氮化物合金材料的研究现状第13-16页
   ·CASTEP 软件简介第16-17页
   ·论文内容安排第17-18页
2 研究方法与理论基础第18-23页
   ·Hohenberg—Kohn 定理第18-19页
   ·Kohn—Sham 方程第19-20页
   ·局域密度近似(LDA)第20-21页
   ·广义梯度近似(GGA)第21-23页
3 富 In 的 InGaN 材料的第一性原理研究第23-35页
   ·计算模型的建立第23-25页
   ·计算方法第25页
   ·晶体替代与间隙缺陷的形成能第25-27页
   ·In1-xGaxN 的晶格常数第27-29页
   ·超晶胞体系能带结构和禁带的分析第29-33页
   ·电子态密度的分析第33-35页
4 总结与展望第35-37页
参考文献第37-43页
读硕士学位期间作者科研情况第43-44页
致谢第44页

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