| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-45页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·微纳米加工技术及其应用 | 第15-19页 |
| ·典型纳米制造技术及其面临的挑战 | 第19-27页 |
| ·超光滑表面制造技术 | 第20页 |
| ·光刻技术 | 第20-23页 |
| ·纳米压印技术 | 第23-25页 |
| ·激光微纳加工技术 | 第25-26页 |
| ·其它微纳米加工技术 | 第26-27页 |
| ·基于扫描探针的纳米加工技术 | 第27-39页 |
| ·单原子操纵 | 第27-30页 |
| ·SPM机械刻写 | 第30-32页 |
| ·局部阳极氧化 | 第32-35页 |
| ·蘸笔印刷术 | 第35-37页 |
| ·基于扫描探针的其它纳米加工技术 | 第37-39页 |
| ·本文的选题意义及研究内容 | 第39-45页 |
| ·本文的选题意义 | 第40-42页 |
| ·本文的研究内容 | 第42-45页 |
| 第2章 实验设备和方法 | 第45-63页 |
| ·原子力显微镜 | 第45-51页 |
| ·工作原理 | 第45-47页 |
| ·AFM的标定 | 第47-51页 |
| ·纳米凸结构的加工 | 第51-54页 |
| ·材料及针尖 | 第51-52页 |
| ·纳米加工及扫描方式 | 第52-53页 |
| ·轮廓线的获取 | 第53-54页 |
| ·纳米凸结构的表征 | 第54-58页 |
| ·化学成分表征 | 第54-55页 |
| ·纳米凸结构断面的TEM表征 | 第55-56页 |
| ·纳米凸结构的机械性能表征 | 第56-58页 |
| ·自组装膜的制备与表征 | 第58-63页 |
| ·自组装膜的制备 | 第58-59页 |
| ·成膜质量表征 | 第59-63页 |
| 第3章 单晶硅表面摩擦诱导纳米凸结构的产生规律 | 第63-83页 |
| ·单晶硅表面摩擦诱导纳米凸结构形成的临界载荷 | 第63-65页 |
| ·大气下纳米凸结构的形成 | 第65-68页 |
| ·真空下纳米凸结构的形成 | 第68-73页 |
| ·不同滑动速度下凸结构的形成 | 第73-76页 |
| ·晶面取向对凸结构形成的影响 | 第76-79页 |
| ·表面亲/疏水性能对凸结构形成的影响 | 第79-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第4章 单晶硅表面摩擦诱导纳米凸结构的产生机理 | 第83-113页 |
| ·国际上关于单晶硅表面摩擦诱导纳米凸结构产生机理的研究进展 | 第83-85页 |
| ·单晶硅表面摩擦诱导纳米凸结构的化学成分分析 | 第85-89页 |
| ·机械作用和氧化反应对摩擦诱导纳米凸结构形成的贡献 | 第89-92页 |
| ·单晶硅表面摩擦诱导纳米凸结构断面的透射电镜观察 | 第92-95页 |
| ·不同滑动速度下单晶硅表面摩擦诱导纳米凸结构的形成机理 | 第95-99页 |
| ·单晶硅表面纳米凸结构的形成机理 | 第99-105页 |
| ·大气和真空下凸结构的形成 | 第99-101页 |
| ·单晶硅表面纳米凸结构的形成机理 | 第101-105页 |
| ·石英和玻璃表面的纳米凸结构 | 第105-108页 |
| ·自组装分子膜与单晶硅表面纳米凸结构的产生 | 第108-111页 |
| ·本章小结 | 第111-113页 |
| 第5章 摩擦诱导纳米加工 | 第113-124页 |
| ·纳米凸结构的机械性能表征 | 第113-119页 |
| ·纳米凸结构的稳定性 | 第113-115页 |
| ·纳米凸结构的弹性模量 | 第115-117页 |
| ·划痕测试 | 第117页 |
| ·摩擦诱导纳米凸结构的微观结构与其机械性能的关系 | 第117-119页 |
| ·摩擦诱导纳米加工 | 第119-121页 |
| ·摩擦诱导纳米加工展望 | 第121-123页 |
| ·本章小结 | 第123-124页 |
| 结论和展望 | 第124-127页 |
| 致谢 | 第127-128页 |
| 参考文献 | 第128-142页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它科研成果 | 第142-147页 |
| 物理量索引 | 第147-148页 |
