AZ91D镁合金微弧氧化处理工艺及膜层组织和性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-26页 |
| ·选题的意义 | 第15-16页 |
| ·镁合金概述 | 第16-17页 |
| ·镁合金的特性 | 第16页 |
| ·镁合金的应用现状 | 第16-17页 |
| ·镁合金常见的腐蚀类型 | 第17-18页 |
| ·点蚀 | 第17-18页 |
| ·电偶腐蚀 | 第18页 |
| ·应力腐蚀 | 第18页 |
| ·疲劳腐蚀 | 第18页 |
| ·高温氧化 | 第18页 |
| ·镁合金表面处理技术 | 第18-19页 |
| ·化学转化膜 | 第19页 |
| ·阳极氧化 | 第19页 |
| ·有机涂层 | 第19页 |
| ·镁合金微弧氧化技术 | 第19-24页 |
| ·微弧氧化基本原理及发展历史 | 第19-20页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层特性及生长规律 | 第20-21页 |
| ·工艺参数对氧化膜性能的影响 | 第21-24页 |
| ·微弧氧化技术存在的问题及发展方向 | 第24页 |
| ·本文主要的研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 试验材料及方法 | 第26-31页 |
| ·试验材料 | 第26页 |
| ·微弧氧化设备 | 第26-27页 |
| ·微弧氧化膜的制备 | 第27-28页 |
| ·试样前处理 | 第27页 |
| ·电解液配制 | 第27页 |
| ·微弧氧化处理 | 第27-28页 |
| ·试验技术路线 | 第28页 |
| ·微弧氧化膜的表征方法 | 第28-31页 |
| ·膜厚测试 | 第28-29页 |
| ·膜层微观形貌及成分分析 | 第29页 |
| ·膜层相结构分析 | 第29页 |
| ·膜层粗糙度测试 | 第29页 |
| ·膜层耐蚀性测试 | 第29-31页 |
| 第3章 镁合金微弧氧化电解液的优化 | 第31-59页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·电解液基础成分的确定 | 第31-32页 |
| ·电解液成分对微弧氧化的影响 | 第32-53页 |
| ·Na_2SiO_3含量对微弧氧化的影响 | 第33-37页 |
| ·NaAlO_2含量对微弧氧化的影响 | 第37-40页 |
| ·Na_2B_4O_7含量对微弧氧化的影响 | 第40-44页 |
| ·NaOH 含量对微弧氧化的影响 | 第44-47页 |
| ·C_3H_8O_3含量对微弧氧化的影响 | 第47-51页 |
| ·C_6H_5Na_3O_7含量对微弧氧化的影响 | 第51-53页 |
| ·正交试验设计 | 第53-56页 |
| ·验证试验 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第4章 镁合金微弧氧化电源控制参数的优化 | 第59-77页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·电源控制参数对微弧氧化的影响 | 第59-73页 |
| ·电流密度对微弧氧化的影响 | 第59-63页 |
| ·频率对微弧氧化的影响 | 第63-66页 |
| ·占空比对微弧氧化的影响 | 第66-70页 |
| ·氧化时间对微弧氧化的影响 | 第70-73页 |
| ·正交试验设计 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第5章 镁合金微弧氧化机理及膜层特性研究 | 第77-91页 |
| ·引言 | 第77页 |
| ·微弧氧化的过程 | 第77-78页 |
| ·微弧氧化膜层表面元素分析 | 第78-80页 |
| ·电源控制参数对膜层相结构的影响 | 第80-83页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的表面粗糙度 | 第83页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的微观形貌 | 第83-84页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的成分及相组成 | 第84-87页 |
| ·镁合金微弧氧化膜表面元素含量及分布 | 第84页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的相组成 | 第84-85页 |
| ·镁合金微弧氧化膜截面元素的分布 | 第85-87页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的耐蚀性能 | 第87-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 结论 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-98页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第98-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 详细摘要 | 第100-104页 |
