| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| ·高温超导带材简介 | 第10-12页 |
| ·高温超导体的发展简述 | 第10-11页 |
| ·第二代高温超导带材的发展 | 第11-12页 |
| ·涂层导体制备技术 | 第12-19页 |
| ·涂层导体制备过程 | 第13-17页 |
| ·涂层导体制备方法 | 第17-19页 |
| ·钙钛矿结构导电缓冲层 | 第19-21页 |
| ·论文选题的重要意义和主要实验内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验及性能测试 | 第23-30页 |
| ·实验工艺路线 | 第23-26页 |
| ·前驱液的配置 | 第23-24页 |
| ·前驱膜涂覆 | 第24-25页 |
| ·薄膜热处理 | 第25-26页 |
| ·主要实验设备 | 第26页 |
| ·薄膜性能测试方法 | 第26-30页 |
| ·晶体结构分析 | 第26-27页 |
| ·微观形貌分析 | 第27-28页 |
| ·薄膜电性能 | 第28-30页 |
| 第3章 MOD法在LaAlO_3单晶上制备La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3缓冲层 | 第30-40页 |
| ·实验原料 | 第30-31页 |
| ·实验 | 第31页 |
| ·前驱液的配置 | 第31页 |
| ·基底清洗 | 第31页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜涂覆与热处理 | 第31页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3缓冲层的性能测试 | 第31-38页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3粉末热分析 | 第31-33页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜结构分析 | 第33-34页 |
| ·不同浓度前驱液对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的影响 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 MOD法在Ni-W基底上制备La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3缓冲层 | 第40-49页 |
| ·实验原料 | 第40-41页 |
| ·实验 | 第41页 |
| ·前驱液的配置 | 第41页 |
| ·基底清洗 | 第41页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜涂覆与热处理 | 第41页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3缓冲层的性能测试 | 第41-48页 |
| ·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜结构分析 | 第41-43页 |
| ·不同浓度前驱液对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的影响 | 第43-44页 |
| ·不同气氛对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的影响 | 第44-46页 |
| ·不同热处理工艺对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 MOD法在Ni-W基底上制备Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)缓冲层 | 第49-64页 |
| ·实验原料 | 第49-50页 |
| ·实验 | 第50页 |
| ·前驱液的配置 | 第50页 |
| ·基底清洗 | 第50页 |
| ·Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)薄膜涂覆与热处理 | 第50页 |
| ·Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)缓冲层的性能测试 | 第50-62页 |
| ·Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)粉末热分析 | 第50-52页 |
| ·Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)薄膜结构分析 | 第52-54页 |
| ·不同浓度前驱液对Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)薄膜的影响 | 第54-56页 |
| ·不同涂覆工艺对Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)薄膜的影响 | 第56-59页 |
| ·不同气氛对Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)薄膜的影响 | 第59-61页 |
| ·不同退火温度对Ce_(0.8)Gd_(0.2)O_(1.9-δ)薄膜的影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第71页 |
