| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-22页 |
| ·研究背景 | 第11页 |
| ·半导体催化剂的光催化机理 | 第11-18页 |
| ·光催化机理的解释 | 第11-13页 |
| ·光催化水的机理 | 第13-14页 |
| ·导带位置和价带位置的确定 | 第14-15页 |
| ·半导体光催化反应的影响因素 | 第15页 |
| ·Ti0_2光催化材料 | 第15-16页 |
| ·Ti0_2光催化剂的改性方法 | 第16-17页 |
| ·Ti0_2在光催化方面的应用 | 第17-18页 |
| ·C02 的催化还原条件 | 第18-19页 |
| ·材料科学与材料设计中的计算机模拟研究 | 第19-21页 |
| ·计算材料学简介 | 第19页 |
| ·材料设计模拟技术 | 第19-20页 |
| ·计算机模拟在材料研究中的应用 | 第20-21页 |
| ·研究内容与展望 | 第21-22页 |
| 第二章 金属掺杂锐钛矿相Ti0_2能带结构研究 | 第22-39页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·晶体模型构建和计算方法 | 第22页 |
| ·计算过程 | 第22-25页 |
| ·锐钛矿相Ti0_2的计算过程 | 第22-23页 |
| ·不同金属掺杂的Ti0_2的计算过程 | 第23页 |
| ·Ti0_2掺杂不同浓度的计算过程 | 第23-24页 |
| ·填隙掺杂的Ti0_2的计算过程 | 第24页 |
| ·金属在Ti0_2的表面的计算过程 | 第24-25页 |
| ·计算结果与讨论 | 第25-34页 |
| ·锐钛矿相Ti0_2的计算结果分析 | 第25页 |
| ·不同金属掺杂的Ti0_2的计算结果分析 | 第25-27页 |
| ·掺杂金属量不同的Ti0_2的计算结果分析 | 第27-33页 |
| ·不同掺杂方式Ti0_2的计算结果分析 | 第33-34页 |
| ·不同体系能带边的确定 | 第34-39页 |
| 第三章 钙钛矿型复合氧化物的能带结构研究 | 第39-46页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·钙钛矿型氧化物能带结构的计算 | 第39-42页 |
| ·计算模型 | 第39-40页 |
| ·计算方法 | 第40页 |
| ·计算结果与讨论 | 第40-42页 |
| ·金属掺杂对钙钛矿型氧化物能带结构的影响 | 第42-44页 |
| ·计算模型 | 第43页 |
| ·计算方法 | 第43页 |
| ·计算结果与讨论 | 第43-44页 |
| ·AB0_3型钙钛矿能带边的确定 | 第44-46页 |
| 第四章 复合异质结CuO/Ti0_2，Ti0_2/SrTi0_3的研究 | 第46-57页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·计算模型与细节 | 第47页 |
| ·计算的模型 | 第47页 |
| ·计算细节 | 第47页 |
| ·结果分析 | 第47-52页 |
| ·CuO/Ti0_2异质结的计算结果分析 | 第47-50页 |
| ·Ti0_2/SrTi0_3异质结的计算结果分析 | 第50-52页 |
| ·异质结带边位置的确定 | 第52-54页 |
| ·异质结CuO/Ti0_2 光催化还原C0_2 制甲酸性能研究 | 第54-57页 |
| ·催化剂制备 | 第54页 |
| ·催化剂表征 | 第54-55页 |
| ·C0_2光催化还原活性评价 | 第55页 |
| ·结果分析与讨论 | 第55-57页 |
| 第五章 光催化反应的机理分析 | 第57-64页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·不同催化剂的机理初步分析 | 第57-64页 |
| ·以Bi_(1/8)Ti0_2为催化剂的机理探索 | 第57-59页 |
| ·Bi/CrTi0_3为催化剂的机理探索 | 第59-60页 |
| ·异质结CuO/Ti0_2的催化机理探索. | 第60-61页 |
| ·Ti0_2/SrTi0_3的反应机理分析 | 第61-64页 |
| 第六章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |