紫外极端超快脉冲产生中的关键技术研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 前言 | 第13-22页 |
| ·超快强激光技术发展历史 | 第13-15页 |
| ·高能紫外飞秒激光的介绍 | 第15-18页 |
| ·紫外飞秒激光的发展近况 | 第15-16页 |
| ·紫外飞秒激光的应用前景 | 第16-17页 |
| ·紫外飞秒脉冲的频谱调制 | 第17-18页 |
| ·高能紫外飞秒光丝的形成 | 第18-20页 |
| ·一维等离子体光栅的形成 | 第19页 |
| ·高能紫外飞秒单丝的形成 | 第19-20页 |
| ·选题的意义,论文的主要工作以及创新点 | 第20-22页 |
| ·选题的意义 | 第20页 |
| ·论文的主要工作 | 第20-21页 |
| ·论文的创新点 | 第21-22页 |
| 第二章 高能紫外飞秒光源的产生与脉冲诊断 | 第22-36页 |
| ·高效三次谐波产生技术 | 第22-24页 |
| ·BBO晶体在三次谐波产生中的应用 | 第22-23页 |
| ·基于晶体级联的倍频-补偿-和频技术 | 第23-24页 |
| ·高能紫外飞秒光源的产生 | 第24-29页 |
| ·高能紫外飞秒光源产生的实验装置 | 第24-27页 |
| ·高能紫外飞秒光丝的形成 | 第27-29页 |
| ·高能紫外飞秒脉冲的诊断 | 第29-35页 |
| ·传统的紫外脉冲的测量方法 | 第29-30页 |
| ·双光子荧光方法测脉冲宽度 | 第30-34页 |
| ·高能紫外飞秒光源的脉冲宽度 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第三章 紫外飞秒脉冲的频谱调制 | 第36-54页 |
| ·频谱展宽的意义 | 第36-38页 |
| ·频谱展宽的研究进展 | 第36-38页 |
| ·基于分子取向的频谱调制 | 第38-46页 |
| ·分子取向的研究介绍 | 第38-39页 |
| ·分子取向在频谱调制和脉冲压缩中的应用 | 第39-41页 |
| ·分子取向对频谱调频制的计算 | 第41-46页 |
| ·不同气体中分子取向的频谱调制的实验 | 第46-52页 |
| ·实验装置 | 第46-47页 |
| ·分子取向对三次谐波的频谱调制 | 第47-50页 |
| ·由分子取向引起的交叉聚焦对频谱和光斑的影响 | 第50-52页 |
| ·实验结果的讨论 | 第52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 第四章 高能紫外飞秒单丝的形成 | 第54-66页 |
| ·超短紫外激光成丝的发展概况 | 第54-55页 |
| ·紫外飞秒等离子体光栅的研究 | 第55-62页 |
| ·等离子体光栅的研究意义 | 第55-56页 |
| ·紫外飞秒等离子体光栅形成的实验装置 | 第56-58页 |
| ·光丝显微成像系统 | 第58-59页 |
| ·紫外飞秒等离子体光栅的形成 | 第59-61页 |
| ·等离子体光栅的荧光强度与输入紫外光能量的关系 | 第61-62页 |
| ·高能紫外飞秒单丝的形成 | 第62-64页 |
| ·高能飞秒单丝的研究意义 | 第62页 |
| ·高能飞秒单丝的形成 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-69页 |
| ·实验总结 | 第66页 |
| ·紫外飞秒光源以及应用的展望 | 第66-67页 |
| ·进一步的实验设想 | 第67-69页 |
| ·周期量级紫外飞秒光源的产生 | 第67页 |
| ·紫外飞秒成像 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-80页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
