| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·ZnO磁性掺杂的研究和理论基础 | 第10-13页 |
| ·自旋电子学的概念 | 第10页 |
| ·ZnO的结构与特性及研究现状 | 第10-12页 |
| ·稀磁半导体 | 第12页 |
| ·稀磁半导体材料磁性来源机制 | 第12-13页 |
| ·研究课题的选取 | 第13-14页 |
| ·Mn掺杂ZnO的研究进展 | 第14-17页 |
| ·本论文的研究内容及结构 | 第17-18页 |
| 第二章 样品制备方法及表征手段 | 第18-31页 |
| ·实验设备及原理 | 第18-20页 |
| ·薄膜的制备 | 第20-23页 |
| ·基片的清洗和选择 | 第20页 |
| ·靶材的制备 | 第20-21页 |
| ·薄膜的制备 | 第21-23页 |
| ·样品的分析测试手段 | 第23-30页 |
| ·X射线衍射仪 | 第23-25页 |
| ·X射线光电子仪 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26-27页 |
| ·紫 外分光光度计 | 第27-29页 |
| ·分子荧光光度计 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 Zn_(1-x)Mn_xO薄膜的结构表征和光学性能检测 | 第31-39页 |
| ·Zn1-xMnxO薄膜的晶格结构 | 第31-34页 |
| ·X射线衍射谱 | 第31-32页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第32-34页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜的表面形貌分析 | 第34页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜的透射谱研究 | 第34-35页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜吸收谱和光学带隙及其简化计算 | 第35-37页 |
| ·薄膜光学带隙的精确分析 | 第35-36页 |
| ·薄膜光学带隙的简化计算 | 第36-37页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜的发光性质研究 | 第37-38页 |
| ·紫光发射 | 第37页 |
| ·蓝光发射 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 制备条件对Zn_(1-x)Mn_xO薄膜性质的影响 | 第39-57页 |
| ·衬底温度对薄膜性质的影响 | 第39-43页 |
| ·表面形貌 | 第39-40页 |
| ·X射线衍射 | 第40-41页 |
| ·透射谱 | 第41-42页 |
| ·光致发光谱 | 第42-43页 |
| ·溅射功率对薄膜性质的影响 | 第43-47页 |
| ·表面形貌 | 第44-45页 |
| ·X射线衍射谱 | 第45页 |
| ·透过谱 | 第45-46页 |
| ·光致发光谱 | 第46-47页 |
| ·工作气压对薄膜性质的影响 | 第47-51页 |
| ·表面形貌 | 第48-49页 |
| ·X射线衍射谱 | 第49页 |
| ·透过谱 | 第49-50页 |
| ·光致发光谱 | 第50-51页 |
| ·氧分压对薄膜性质的影响 | 第51-55页 |
| ·X射线衍射分析 | 第52页 |
| ·原子力显微图分析 | 第52-53页 |
| ·吸收及透射谱 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第66页 |
