| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| ·课题来源、目的和意义 | 第9-10页 |
| ·钛合金紧固件的应用发展现状 | 第10-11页 |
| ·钛合金的表面强化处理研究现状 | 第11-14页 |
| ·激光融覆表面处理 | 第12页 |
| ·表面沉积涂层法 | 第12-13页 |
| ·热扩散法 | 第13页 |
| ·表面纳米化处理 | 第13页 |
| ·化学硼化和涂覆MoS_2 相结合的方法 | 第13页 |
| ·微等离子体氧化法 | 第13-14页 |
| ·微等离子体氧化研究现状 | 第14-20页 |
| ·微等离子体氧化技术特点 | 第15页 |
| ·微等离子体氧化过程的基本原理 | 第15-17页 |
| ·微等离子体氧化理论模型 | 第17-18页 |
| ·微等离子体氧化技术所用设备 | 第18-19页 |
| ·微等离子体氧化技术所用电解液 | 第19-20页 |
| ·钛合金微等离子体氧化研究 | 第20-21页 |
| ·课题的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第22-28页 |
| ·试验材料及化学试剂 | 第22-23页 |
| ·实验设备 | 第23-24页 |
| ·微等离子体氧化装置 | 第23页 |
| ·微等离子体氧化电源 | 第23-24页 |
| ·实验方法 | 第24-28页 |
| ·微等离子体氧化陶瓷膜层的制备 | 第24页 |
| ·显微组织与结构分析方法 | 第24-26页 |
| ·陶瓷膜层性能评价方法 | 第26-28页 |
| 第3章 TC4 钛合金微等离子体氧化电解液体系筛选 | 第28-43页 |
| ·Na_3PO_4 体系陶瓷膜的制备及表征 | 第28-35页 |
| ·陶瓷膜生长的电压时间曲线 | 第28-29页 |
| ·陶瓷膜的形貌分析 | 第29-30页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第30-31页 |
| ·陶瓷膜的膜厚及硬度 | 第31页 |
| ·陶瓷膜的摩擦磨损性能 | 第31-33页 |
| ·陶瓷膜的磨损机制 | 第33-35页 |
| ·NaAlO_2-Na_2CO_3 体系陶瓷膜的制备及表征 | 第35-42页 |
| ·陶瓷膜生长的电压时间曲线 | 第35页 |
| ·陶瓷膜的形貌分析 | 第35-37页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第37-38页 |
| ·陶瓷膜的膜厚及硬度 | 第38页 |
| ·陶瓷膜的摩擦磨损性能 | 第38-40页 |
| ·陶瓷膜的磨损机制 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 电源参数对膜层性能的影响研究 | 第43-65页 |
| ·电流密度对陶瓷膜成膜性能的影响 | 第43-47页 |
| ·陶瓷膜层的电压时间曲线 | 第43-44页 |
| ·陶瓷膜的表面形貌分析 | 第44-45页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第45页 |
| ·陶瓷膜的硬度 | 第45-46页 |
| ·陶瓷膜的摩擦磨损性能 | 第46-47页 |
| ·电源频率对陶瓷膜成膜性能的影响 | 第47-52页 |
| ·陶瓷膜层的电压时间曲线 | 第47-48页 |
| ·陶瓷膜的表面形貌分析 | 第48-49页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第49-50页 |
| ·陶瓷膜的硬度 | 第50-51页 |
| ·陶瓷膜的摩擦磨损性能 | 第51-52页 |
| ·电源占空比对陶瓷膜成膜性能的影响 | 第52-57页 |
| ·陶瓷膜层的电压时间曲线 | 第52-53页 |
| ·陶瓷膜的表面形貌分析 | 第53-54页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第54-55页 |
| ·陶瓷膜的硬度 | 第55-56页 |
| ·陶瓷膜的摩擦磨损性能 | 第56-57页 |
| ·氧化时间对陶瓷膜成膜性能的影响 | 第57-64页 |
| ·陶瓷膜层的电压时间曲线 | 第57-59页 |
| ·陶瓷膜的表面形貌分析 | 第59-61页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第61页 |
| ·陶瓷膜的硬度 | 第61-62页 |
| ·陶瓷膜的摩擦磨损性能 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 微等离子体氧化性能改善剂研究 | 第65-80页 |
| ·Na_2MoO_4 掺杂对膜层结构与性能的影响 | 第65-70页 |
| ·氧化工艺的电压时间曲线 | 第65-66页 |
| ·膜层的表面形貌 | 第66-67页 |
| ·膜层表面的元素组成分析 | 第67-68页 |
| ·膜层的表面相组成 | 第68页 |
| ·陶瓷膜的硬度 | 第68-69页 |
| ·膜层摩擦磨损性能 | 第69-70页 |
| ·Na_2B_4O_7 掺杂对膜层性能的影响 | 第70-75页 |
| ·氧化工艺的电压时间曲线 | 第70-71页 |
| ·膜层的表面形貌 | 第71-72页 |
| ·膜层表面的元素组成分析 | 第72-73页 |
| ·膜层的表面相组成 | 第73页 |
| ·陶瓷膜的硬度 | 第73-74页 |
| ·膜层摩擦磨损性能 | 第74-75页 |
| ·膜层的摩擦磨损机制 | 第75-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88页 |